摘要: 本发明公开了一种测量溴化铊材料中杂质含量的方法,其特征在于,该方法包括下述步骤为: 1. 第1步:以TlBr为原料,配制Tl(III)的母液,母液中含Tl(III)量为1~3mg/mL; 2. 第2步:以母液1mL计,在1mL母液中加入10mL浓度为3.6~8.1mol/L的HBr和10~35mL的异丙醚,振荡均匀,静置分层后分离出水相; 3. 第3步:利用电感耦合等离子体质谱仪测量水相中各杂质的含量。
本发明方法可使溴化铊材料中的基体元素铊的含量达到ICP-MS的测试要求,检测出材料中的各杂质的含量。
| 专利名称 | 一种测量溴化铊材料中杂质含量的方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN200910273200.3 |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2009-12-14 |
| 专利授权日期 | 2010-06-23 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 周东祥;郑志平;龚树萍;蒙芳;胡云香 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 本发明公开了一种测量溴化铊材料中杂质含量的方法,其特征在于,该方法包括下述步骤为:第1步以TlBr为原料,配制Tl(III)的母液,母液中含Tl(III)量为1~3mg/mL;第2步以母液1mL计,在1mL母液中加入10mL浓度为3.6~8.1mol/L的HBr和10~35mL的异丙醚,振荡均匀,静置分层后分离出水相;第3步利用电感耦合等离子体质谱仪测量水相中各杂质的含量。本发明方法可使溴化铊材料中的基体元素铊的含量达到ICP-MS的测试要求,检测出材料中的各杂质的含量。 | ||