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高密度磁记录薄膜材料的研制

技术类型:非专利

技术成熟度:-

转让方式:-

应用领域:电子器件制造

技术领域:半导体新材料制备与应用技术

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

该项技术是利用铝氧化膜结构特征,使填充在膜层微孔中的磁性金属形成垂直于膜面、排列整齐的微型针状体。通过控制检出金属沉积状态和结晶取向,获得垂直各向异性的特征,从而制得了垂直磁记录薄膜材料。

在研究过程中,项目使用硫酸交流氧化膜作为磁性金属载体,改善了膜层的微孔结构。这使得膜层在孔径、孔隙率、孔的垂直度等方面更有利于磁性金属及合金的沉积和垂直各向异性的发挥。

配合交流氧化膜结构的特征,研究并确立了与之配套的沉积磁性金属及合金的技术及后处理方法。因此,制得了磁性能优良的垂直磁记录薄膜。

该项技术工艺路线先进,具有独创性,工艺稳定,重现性好。设备简单,操作方便,成本低。所制备的磁记录薄膜材料的技术指标先进,与相关技术比较,处于国内领先地位。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
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