本发明提供了一种硫醇修饰的MoS2纳米片层材料的制备方法,具体实施方案如下:
水溶性钼源前驱体的制备:
表面修饰片层二硫化钼材料的制备:
纯化:
本发明为片层MoS2材料的表面修饰提供了一种简易可行、操作便捷的方法。
| 专利名称 | 水热法制备硫醇修饰的片层二硫化钼的方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN201710035410.3 |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2017-01-18 |
| 专利授权日期 | 2017-05-24 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 吕弋;徐博彬;宋红杰 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 本发明提供一种硫醇修饰的MoS2纳米片层材料的制备方法,具体实施方案如下:(1)水溶性钼源前驱体的制备。将一定量的MoO2(ACAC)2溶解在SHCH2COOH水溶液中,并加热至100℃恒温1小时,逐滴加入NaOH溶液调节pH至11.0;(2)表面修饰片层二硫化钼材料的制备。将一定量的Na2S与上述溶液混合,转移至高温反应釜中反应;(3)纯化。将反应得到的溶液透析一段时间后,得到硫醇修饰的二硫化钼片层纳米片层材料。本发明为片层MoS2材料的表面修饰提供了一种简易可行、操作便捷的方法。 | ||