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非线性光学材料电子束辐照下非线性系数的计算方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让

专利申请日:2007-11-06

专利所属地 :中国

专利号:200710176881.2

应用领域:电子器件制造

技术领域:电子信息

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

非线性光学材料在电子束辐照下非线性系数的计算方法,具体步骤如下:

  1. 首先,根据实际的高速电子束流辐照条件,包括射线能量、束流强度和粒子速度,计算出对应的辐照电场。
  2. 接着,使用量子计算软件Gaussian,读取被辐照的非线性材料分子结构。在此步骤中,选用适合计算辐照电场作用下分子体系(或离子基团)加场能量的量子力学方法。
  3. 然后,依据步骤2中选择的量子计算方法,对34种不同外场情形下的分子体系(或离子基团)加场能量进行计算,并收集能量差集。
  4. 最后,通过上述计算得到的数据,计算出二阶非线性系数。

该方法充分考虑到非线性材料的特点,利用量子力学手段,精确计算材料分子体系与电子束辐照产生的电场之间的相互作用,从而得出非线性系数。这一方法不仅计算精度高,而且可以实时计算非线性材料在电子束辐照时的非线性系数,表现出极大的灵活性。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 非线性光学材料电子束辐照下非线性系数的计算方法
专利状态 - 专利号(申请号) 200710176881.2
申请号 - 专利申请日期 2007-11-06
专利授权日期 - 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 石建平;崔执凤;黄圆;董可秀
权利人 -
专利摘要 一种非线性光学材料电子束辐照下非线性系数的计算方法,包含如下步骤:(1)根据实际的高速电子束流辐照条件(射线能量、束流强度和粒子速度),计算出对应的辐照电场;(2)用量子计算软件GAUSSIAN读入被辐照的非线性材料分子结构,选用计算辐照电场作用下分子体系(或离子基团)加场能量的量子力学方法;(3)依据步骤(2)中选择的量子计算方法计算34种外场情形下分子体系(或离子基团)加场能量差集;(4)计算出二阶非线性系数。该方法充分考虑非线性材料自身特点,采用量子力学手段计算材料的分子体系与电子束辐照所致电场之间的相互作用时的非线性系数,计算精度大大提高,同时可以适时的计算非线性材料在受电子束辐照时的非线性系数,具有很大的灵活性。
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