一种低温等离子体处理装置

本实用新型实施例公开了一种低温等离子体处理装置，具体如下：

该装置包括： 1. 进行等离子体反应的反应室； 2. 反应室内侧设置有第一电极板和第二电极板； 3. 第一电极板与反应室外壳绝缘，第二电极板与反应室外壳一起接地； 4. 反应室设置有进气口； 5. 反应室与第一电极板之间设有气体分配器； 6. 工作气体通过进气口经过气体分配器进入反应室； 7. 反应室的两侧设置有反应后气体的出气口。

此外，装置还包括： 1. 至少两个射频源； 2. 通过相应的射频源匹配网络； 3. 利用馈入元件与第一电极板上的射频馈入点连接； 4. 第一电极板上的射频馈入点至少为两个。

采用本实用新型，可以实现以下效果： 1. 解耦； 2. 独立控制等离子体的密度和鞘层电压； 3. 简化了传统的射频馈入结构。

本实用新型实施例公开了一种低温等离子体处理装置，其中，一种低温等离子体处理装置包括：进行等离子体反应的反应室，所述反应室内侧设置有第一电极板和第二电极板，第一电极板与所述反应室外壳绝缘，第二电极板与所述反应室外壳一起接地；所述反应室设置有进气口，反应室与第一电极板之间设有气体分配器，工作气体通过所述进气口经过所述气体分配器进入所述反应室，所述反应室的两侧设置有反应后气体的出气口；至少两个射频源通过相应的射频源匹配网络，利用馈入元件与第一电极板上的射频馈入点连接，所述第一电极板上的射频馈入点至少为两个。采用本实用新型，实现解耦，独立控制等离子体的密度和鞘层电压，简化了传统的射频馈入结构。