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成果概况
简介
该成果采用射频等离子体化学气相沉积法,合理改装了国产JG-PF3B型高频溅射仪。以高纯甲烷气体为原料,并在研究薄膜结构与性能之间关系和各种影响因素的基础上找出规律,控制关键性工艺参数。在硅、锗等基底上沉积出结合力好和厚度均匀的类金刚石薄膜。
该薄膜的显微硬度为3030kgf/平方毫米以上,对一般酸、碱、有机溶剂不受浸蚀,具有优良的减反射能力和耐磨性能,摩擦系数很小。
该薄膜适于作红外光学零件、红外探测装置的保护膜和增透膜以及其他光学干涉薄膜等。
该成果采用射频等离子体化学气相沉积法,合理改装了国产JG-PF3B型高频溅射仪,以高纯甲烷气体为原料,并在研究薄膜结构与性能之间关系和各种影响因素的基础上找出规律,控制关键性工艺参数,在硅、锗等基底上沉积出结合力好和厚度均匀的类金刚石薄膜。该薄膜的显微硬度为3030kgf/平方毫米以上,对一般酸、碱、有机溶剂不受浸蚀,具有优良的减反射能力和耐磨性能,摩擦系数很小。该薄膜适于作红外光学零件、红外探测装置的保护膜和增透膜以及其他光学干涉薄膜等。
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原文)
专利基本信息
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专利号(申请号) |
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专利申请日期 |
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专利权届满日 |
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专利类型 |
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| 专利摘要 |
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