光学薄膜反应离子镀技术

光学薄膜反应离子镀技术是光学薄膜技术领域的最新成果。它利用热弧离子源诱发镀膜室气体放电，使膜粒子离子化。在电场作用下，离子态的膜料粒子具有一定的功能，与反应气体结合沉积成膜，以获得微观结构接近块料材料的光学薄膜。

该项成果包括： 1. 光学离子镀膜装置（DMF-700箱式光学镀膜机改装） - 热弧离子源：60V，60A - E型电子枪：7.5kV，400mA - 充气系统：O2、N2、Ar三种气体 - 自动压强控制系统

2. 光学薄膜反应离子镀技术软件。

该项成果的科学技术水平与国际先进水平相当，在国内居于领先地位。该项成果推广应用于高质量的光学薄膜元件的制备，可为国家节约百万美元的外汇。北京仪器厂已采用该项成果进行新产品试制，可节约新产品开发资金数十万元人民币。

光学薄膜反应离子镀技术是光学薄膜技术领域的最新成果。它利用热弧离子源诱发镀膜室气体放电，使膜粒子离子化，离子态的膜料粒子在电场作用下具有一定的功能，与反应气体结合沉积成膜，以获得微观结构接近块料材料的光学薄膜。该项成果包括：①光学离子镀膜装置（ＤＭＦ－７００箱式光学镀膜机改装）热弧离子源６０Ｖ，６０Ａ；Ｅ型电子枪７．５ｋＶ，４００ｍＡ；充气系统Ｏ＜，２＞、Ｎ＜，２＞、Ａｒ三种气体；自动压强控制系统。②光学薄膜反应离子镀技术软件。该项成果的科学技术水平与国际先进水平相当，在国内居于领先地位。该项成果推广应用于高质量的光学薄膜元件的制备，可为国家节约百万美元的外汇。北京仪器厂已采用该项成果进行新产品试制，可节约新产品开发资金数十万元人民币。