一种具有单原子厚度的单层g-C3N4纳米材料的制备方法

摘要：

本发明公开了一种具有单原子厚度的单层g-C3N4光催化材料的制备方法：

步骤1：室温下，将块状g-C3N4研磨至粉状，加入到酸溶液或者碱溶液中，搅拌均匀后静置；

步骤2：将步骤1所得溶液再次搅拌均匀后进行超声处理，待沉淀完全后去上清液，用去离子水冲洗至pH值为6～8；烘干并研磨，加入到有机溶剂中再次进行超声处理，待沉淀完全后去上清液；

步骤3：将步骤2得到的g-C3N4用无水乙醇离心洗涤，即得到单层的g-C3N4。

本发明制备工艺简单，重复性好，制备速度快。在氙灯照射下，此光催化材料分解水制氢效率高，降解有机染料效果明显。本发明为g-C3N4光催化材料的制备及应用提供了新思路，拓宽了光催化材料的研究范围。

摘要：本发明公开了一种具有单原子厚度的单层g-C3N4光催化材料的制备方法：步骤1：室温下，将块状g-C3N4研磨至粉状，加入到酸溶液或者碱溶液中，搅拌均匀后静置；步骤2：将步骤1所得溶液再次搅拌均匀后进行超声处理，待沉淀完全后去上清液，用去离子水冲洗pH至6～8；烘干并研磨，加入到有机溶剂中再次进行超声处理，待沉淀完全后去上清液；步骤3：将步骤2得到的g-C3N4用无水乙醇离心洗涤，即得到单层的g-C3N4。本发明制备工艺简单，重复性好，制备速度快。氙灯照射下，此光催化材料分解水制氢效率高，降解有机染料效果明显。本发明为g-C3N4光催化材料的制备及应用提供了新思路，拓宽了光催化材料的研究范围。