[00008953]微纳米压印技术与设备
交易价格：面议
所属行业：其他化学化工
类型：发明专利
技术成熟度：正在研发
专利所属地：中国
专利号：01134125.4
交易方式：技术转让
联系人： 苏州大学科技处
进入空间
所在地：江苏苏州市
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服务承诺
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产权明晰
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资料保密
对所交付的所有资料进行保密
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如实描述
技术详细介绍
技术投资分析： 采用高频感应加热和压力传感技术，在聚合物表面进行快速纳米压印光刻，最小结构：>30纳米，速度快1s/单次压印，可快速更换压印头。在软件的控制下，进行多图形组合压印光刻方式，形成阵列图形。 具有国际先进水平，功能最强、已投入工业化应用。 性能指标： 压印输出精度：>30nm 单元面积：50mmx50mm 阵列幅面：640mm x 800mm 技术的应用领域前景分析： 精密电路掩模、精密纳米结构，精密光导器件、显示器件衍射光学列阵器件。 效益分析： 本技术市场应用范围广，成本低，利润高，效益可观。 厂房条件建议： 无 备注： 无
技术投资分析： 采用高频感应加热和压力传感技术，在聚合物表面进行快速纳米压印光刻，最小结构：>30纳米，速度快1s/单次压印，可快速更换压印头。在软件的控制下，进行多图形组合压印光刻方式，形成阵列图形。 具有国际先进水平，功能最强、已投入工业化应用。 性能指标： 压印输出精度：>30nm 单元面积：50mmx50mm 阵列幅面：640mm x 800mm 技术的应用领域前景分析： 精密电路掩模、精密纳米结构，精密光导器件、显示器件衍射光学列阵器件。 效益分析： 本技术市场应用范围广，成本低，利润高，效益可观。 厂房条件建议： 无 备注： 无
