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专利基本信息
专利名称 高亮度空间相干X射线源
专利状态 - 专利号（申请号） CN1177327C
专利申请日期 2003-03-14 专利类型 发明专利
申请公布号 CN03115809.9 申请公布日 2003-03-14
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 韩申生, 喻虹, 高琛, 罗震林
专利权人 中国科学院上海光学精密机械研究所
专利摘要 一种高亮度空间相干X射线源,包括处于一防辐射外壳内的X光光源和X射线空间相干增益腔,其特点是：所述的X光光源由电子束激发X光光源和毛细管X光聚焦透镜组成,毛细管X光聚焦透镜设置于电子束激发X光光源的出射窗口处；该X射线空间相干增益腔的入口处设有入射限孔光阑,该入射限孔光阑位于该毛细管X光透镜的后焦点处；该电子束激发X光光源、毛细管X光透镜、空间相干增益腔的入射限孔光阑和出射窗口同轴；该X射线空间相干增益腔的出射窗口的孔径D-(出)大于入射限孔光阑的孔径D-(入)；D-(入)的选取范围是：1微米＜D-(入)＜30微米。本发明高亮度空间相干X射线源,具有普遍适用、高相干性、高亮度、低成本、体积小和稳定性好的特点。
专利价值评估分析
专利价值评估分析 样例
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