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专利基本信息
专利名称 一种抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法
专利状态 - 专利号（申请号） CN102248461A
专利申请日期 2011-04-02 专利类型 发明专利
申请公布号 CN201110082649.9 申请公布日 2011-04-02
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 施春燕,袁家虎,伍凡,万勇建,范斌,雷柏平
专利权人 中国科学院光电技术研究所
专利摘要 本发明一种抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法包括：确定待抛光光学元件表面的待抛光点和驻留时间分布,用随机轨道算法生成待抛光光学元件表面离散点的抛光顺序和抛光轨迹；用驻留时间补偿方法计算抛光头运动轨迹经历抛光点的停留时间分布,获得待抛光光学元件表面离散点准确的驻留时间；根据驻留时间的分布,由机床代码转换程序生成随机轨迹数控抛光程序代码,在数控抛光机床执行随机轨迹数控抛光程序代码对待抛光光学元件表面各个点进行抛光。随机轨迹抛光方法根据面形分布,使抛光头和磨粒的运动轨迹近似为随机凌乱分布,待抛光光学元件不会残留规则的轨迹划痕,而且使规则的轨迹间的去除函数迭代误差均匀的分布在整个面形中,提高面形精度。
专利价值评估分析
专利价值评估分析 样例
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