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专利基本信息
专利名称 一种电子元件生产的离子注入装置
专利状态 专利权维持 专利号(申请号) 2017207253151
专利申请日期 2017-06-21 专利类型 实用新型专利
申请公布号 201720725315 申请公布日 2017-06-21
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 -
专利权人 诸暨越博企业管理咨询有限公司
专利摘要 本实用新型公开了一种电子元件生产的离子注入装置,包括离子源,离子源上端安装有离子喷枪,离子源上端连接有离子通道,离子通道上设置有离子过滤孔隙,离子过滤孔隙右端设置有聚焦器,聚焦器右端设置有磁镜,磁镜右端连接有离子加速器,离子加速器内设置有晶片夹具,晶片夹具包括基板,基板内设置有晶片插槽,基板内设置有若干个遮挡凹槽,遮挡凹槽内插入遮挡板,遮挡板与遮挡凹槽可拆卸连接,通过对离子注入装置进行结构改进,利用磁镜来稳定离子束,使得离子在注入过程中更加均匀稳定,采用晶片夹具来夹持晶片,使得晶片能够稳定接收离子束,避免离子注入过程中晃动带来的偏差,晶片夹具上的遮挡板位置可调,实现均匀分布,值得推广。
专利价值评估分析
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