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专利基本信息
专利名称 ITO衬底上无溶剂元素直接制备PbS薄膜的方法
专利状态 专利权维持 专利号（申请号） 2015101914743
专利申请日期 2015-04-22 专利类型 发明专利
申请公布号 201510191474 申请公布日 2015-04-22
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 -
专利权人 许昌学院
专利摘要 本发明公开在ITO衬底上无溶剂元素直接制备PbS薄膜的方法，应用硫粉的低温升华特性,在密闭的充满氮气的反应釜内，在溅射有单质铅膜的氧化铟锡导电玻璃(ITO)衬底上，在低温的条件下，元素直接反应，原位生长PbS薄膜，反应釜内充满氮气而不是任何的溶剂做反应介质。在ITO玻璃衬底上，溅射一层均匀致密的Pb膜并通过膜厚监控系统控制所溅射的Pb膜厚度。在150摄氏度左右的温度下，升华出来的硫和ITO玻璃衬底上的Pb膜发生元素直接反应并在衬底上原位生成PbS薄膜;为了防止S蒸汽遇到镀有Pb膜的ITO衬底再次冷凝成S膜而覆盖在Pb膜上阻隔后续的元素直接反应，我们将Pb膜朝下摆放并错开S源。该PbS薄膜具有独特的双层结构并紧密吸附在衬底上，是一种绿色环保制备技术。
专利价值评估分析
专利价值评估分析 样例
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