专利基本信息
| 专利名称 | 一种高效降解抗生素的掺氯碳量子点/g-C3N4纳米片复合材料的制备方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN107282084A |
| 专利申请日期 | 2017-07-28 | 专利类型 | 发明专利 |
| 申请公布号 | 2017106310433 | 申请公布日 | 2017-07-28 |
| 授权公告号 | - | 授权公告日 | - |
| 发明人 | 吕珺;汪宇;徐光青;郑治祥;吴玉程 | ||
| 专利权人 | 合肥工业大学 | ||
| 专利摘要 | 本发明属于光催化技术领域,具体涉及一种高效降解抗生素的掺氯碳量子点/g‑C3N4纳米片复合材料的制备方法,采用在空气条件下的两次煅烧法制备g‑C3N4纳米片;然后用盐酸溶液对所制备的g‑C3N4纳米片质子化处理;之后以乙二醇以及氯化亚砜作为原料制备出掺氯碳量子点溶液;最后,将掺氯碳量子点溶液与质子化的g‑C3N4纳米片通过静电自组装的方法制备出复合材料。掺氯碳量子点/g‑C3N4纳米片复合材料能够增强对可见光的吸收以及有效地分离光生载流子,可有效应用于光催化降解抗生素。 | ||
专利价值评估分析
专利价值评估分析
样例
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