专利基本信息
| 专利名称 | 多层铜布线钴阻挡层表面粗糙度的控制方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN106433479B |
| 专利申请日期 | 2016-07-19 | 专利类型 | 发明专利 |
| 申请公布号 | 201610576241X | 申请公布日 | 2016-07-19 |
| 授权公告号 | - | 授权公告日 | - |
| 发明人 | 王辰伟;刘玉岭;岳昕;高宝红;牛新环 | ||
| 专利权人 | 河北工业大学 | ||
| 专利摘要 | 本发明属于化学机械抛光领域,尤其涉及一种多层铜布线钴阻挡层表面粗糙度的控制方法,首先配置碱性抛光液,然后在流量100‑500ml/min,温度15‑30℃、抛头转速为57‑150rpm、抛盘转速为63‑150rpm,抛光压力为6.89‑27.56kpa的工艺条件下进行抛光1‑5min;所述的碱性抛光液包括:螯合剂用量占抛光液总质量的0.1%‑1%;非离子型表面活性剂的用量为抛光液总质量的1‑5%;所述的Si02用量占抛光液总质量的1%,所述的抛光液最终的pH值为8‑12;该方法克服了现有铜布线化学机械抛光过程中存在的控制钴阻挡层表面粗糙度多采用酸性抛光液且包含氧化剂的问题。 | ||
专利价值评估分析
专利价值评估分析
样例
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