专利基本信息
| 专利名称 | 微波凝视关联成像系统中时空随机辐射场的远场测量方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN104569975B |
| 专利申请日期 | 2015-02-09 | 专利类型 | 发明专利 |
| 申请公布号 | 2015100674668 | 申请公布日 | 2015-02-09 |
| 授权公告号 | - | 授权公告日 | - |
| 发明人 | 王东进;田超;郭圆月;陈卫东;刘波;孟青泉 | ||
| 专利权人 | 中国科学技术大学 | ||
| 专利摘要 | 本发明公开了一种微波凝视关联成像系统中时空随机辐射场的远场测量方法,其包括:在成像区域中选取M个测量点以及一参考点,在相同的辐照条件下对第一个测量点处的辐射场与参考点处的辐射场进行同步连续的无扰测量及记录;在不改变辐射系统构型与激励信号的情况下,更换下一个测量点,并对该测量点处的辐射场与参考点处的辐射场进行同步连续的无扰测量及记录,直到遍历所有测量点;以参考点处记录的辐射场变化为时间维匹配基准,将所有测量点处的记录的辐射场在时间维对齐;提取不同时间片段测量点处的辐射场分布,获得辐射场随时间与空间两维变化的信息。该方法能够准确测量辐射场时间维和空间维的变化,可用于辐射场标定或者关联成像。 | ||
专利价值评估分析
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样例
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