专利基本信息
| 专利名称 | 具有InGaN/GaN/AlGaN/GaN量子阱的LED外延薄膜 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN212209532U |
| 专利申请日期 | 2019-11-18 | 专利类型 | 实用新型专利 |
| 申请公布号 | 2019219899296 | 申请公布日 | 2019-11-18 |
| 授权公告号 | - | 授权公告日 | - |
| 发明人 | 李国强;李媛;洪晓松;王文樑;邢志恒 | ||
| 专利权人 | 华南理工大学 | ||
| 专利摘要 | 本实用新型公开了具有InGaN/GaN/AlGaN/GaN量子阱的LED外延薄膜。所述LED外延薄膜包括n‑GaN,依次生长在n‑GaN上的MOCVD制备的InGaN/GaN/AlGaN/GaN量子阱、电子阻挡层、p‑GaN层。本实用新型提出的高内量子效率近紫外LED外延薄膜具有结构简单、效率高、可有效改善量子阱材料质量的特点,可广泛应用于近紫外、蓝光、黄绿光LED等领域。 | ||
专利价值评估分析
专利价值评估分析
样例
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