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专利基本信息
专利名称 基于PEO电纺膜基底的近场直写聚焦及微图案脱离方法
专利状态 - 专利号（申请号） CN109929128B
专利申请日期 2019-01-28 专利类型 发明专利
申请公布号 2019100783470 申请公布日 2019-01-28
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 郑高峰;钟炜政;姜佳昕;刘益芳;柳娟;郑建毅
专利权人 厦门大学
专利摘要 本发明涉及电纺直写技术领域,具体涉及基于PEO电纺膜基底的近场直写聚焦及微图案脱离方法,本发明提出了一种利用PEO电纺膜与铝箔结合的电纺基底,针对不溶于水的电纺材料实现电纺直写射流的聚焦以及微图案的无损脱离。该方法需要先在接地金属基底上用静电纺丝技术先纺一层水溶性PEO纤维膜,制成一个复合电纺基底,之后往基底上用电纺直写技术印制微图案,最后将复合基底连带着微图案一起浸泡在选择溶液中,此时PEO会溶解,而微图案则不会溶解,此时由于连接目标纤维膜及基底的材料溶解,微图案因此脱离基底。本发明采用上述方法,即可实现电纺直写的自准焦及电纺直写微图案与金属基底的无损分离。
专利价值评估分析
专利价值评估分析 样例
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