专利基本信息
| 专利名称 | 一种在硅表面制备非晶碳氮薄膜的装置及方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN106011745A |
| 专利申请日期 | 2016-06-15 | 专利类型 | 发明专利 |
| 申请公布号 | 2016104227511 | 申请公布日 | 2016-06-15 |
| 授权公告号 | - | 授权公告日 | - |
| 发明人 | 周兵;刘竹波;王志峰 | ||
| 专利权人 | 太原理工大学 | ||
| 专利摘要 | 本发明公开了一种在硅表面制备非晶碳氮薄膜的装置及方法。该装置为离子源辅助脉冲阴极电弧装置,制备方法包括下列步骤:将预先化学清洗的硅基片烘干,放置在旋转样品台上;抽真空,通入氩气到真空室,采用离子溅射源对硅基片表面进行物理清洗;以高纯石墨作为脉冲电弧的阴极靶材,调节脉冲放电频率,同时通入氮气,打开离子源,分别制备原子化和离子化氮掺杂的非晶碳氮薄膜。本发明实现了非晶碳氮薄膜中的碳/氮原子和碳氮键/碳碳键的含量可调、碳氮键合类型和类石墨氮/类吡啶氮的结构可控。 | ||
专利价值评估分析
专利价值评估分析
样例
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