专利基本信息
| 专利名称 | 一种提高靶材使用率的磁控溅射圆形平面靶枪的磁靶 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN110106487A |
| 专利申请日期 | 2019-05-28 | 专利类型 | 发明专利 |
| 申请公布号 | 2019104526127 | 申请公布日 | 2019-05-28 |
| 授权公告号 | - | 授权公告日 | - |
| 发明人 | 付学成 | ||
| 专利权人 | 上海交通大学 | ||
| 专利摘要 | 本发明提供了一种提高靶材使用率的磁控溅射圆形平面靶枪的磁靶,所述磁靶包括靶材和磁铁;所述磁铁包括圆柱形磁铁和梅花形环状磁铁;所述圆柱形磁铁位于梅花形环状磁铁的中心;所述圆柱形磁铁与梅花形环状磁铁同圆心且磁铁高度相同。相比传统的圆形平面磁控靶枪的磁靶,本发明可以在磁控溅射过程中,增加靶材刻蚀槽的宽度,从而提高靶材的使用率。 | ||
专利价值评估分析
专利价值评估分析
样例
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