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专利基本信息
专利名称 一种具有高饱和度结构色的多孔氧化铝光子晶体薄膜的制备方法
专利状态 - 专利号（申请号） CN109989086B
专利申请日期 2019-04-19 专利类型 发明专利
申请公布号 2019103154733 申请公布日 2019-04-19
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 徐芹;彭琪;郝圣圳;孙春心;兰天;王拥国
专利权人 河北工业大学
专利摘要 本发明为一种具有高饱和度结构色的多孔氧化铝光子晶体薄膜的制备方法。该方法包括以下步骤:高纯铝片经过退火、抛光、洗涤后作为阳极,以石墨为阴极,浸入到草酸溶液中,采用恒电位正弦脉冲进行第一次阳极氧化制备光子晶体。洗涤后放入草酸溶液中,使用直流稳压电源提供的大电压进行第二次阳极氧化,得到具有高饱和度结构色的阳极氧化铝光子晶体模板。本发明无需去除铝基底,也无需在氧化铝薄膜中沉积其它材料就能观察到饱和度较高的结构色,进一步拓展了光子晶体结构色在彩显、防伪、装饰等领域的应用。
专利价值评估分析
专利价值评估分析 样例
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