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专利基本信息
专利名称 一种借助双层气体加强聚焦功能的电纺直写喷印装置
专利状态 - 专利号(申请号) CN103147138B
专利申请日期 2013-03-08 专利类型 发明专利
申请公布号 2013100742045 申请公布日 2013-03-08
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 孙道恒;何广奇;郑高峰;林奕宏;卫瑾;刘海燕;郑建毅;黄伟伟
专利权人 厦门大学
专利摘要 一种借助双层气体加强聚焦功能的电纺直写喷印装置,涉及电纺直写喷印装置。设喷头装置、供气装置、溶液槽、供液装置、高压电源和收集板;喷头装置设外层气体喷嘴、内层气体喷嘴和液体喷嘴,3个喷嘴均设同轴中心通孔,液体喷嘴设于内层气体喷嘴的中心通孔中,内层气体喷嘴设于外层气体喷嘴的中心通孔中,外层气体喷嘴设进气口,内层气体喷嘴设进气口,液体喷嘴设进液孔,内层气体喷嘴的进气口与供气装置相连,外层气体喷嘴的进气口与供气装置相连,溶液槽设于供液装置上,溶液槽经供液管与液体喷嘴连通,高压电源正极接液体喷嘴的进液孔,高压电源负极接收集板,收集板位于喷头装置正下方。可加强约束射流、维持射流喷射稳定性,改善聚焦效果。
专利价值评估分析
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