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专利基本信息
专利名称 地质勘探岩层分析设备
专利状态 - 专利号(申请号) CN305885254S
专利申请日期 2019-11-25 专利类型 外观专利
申请公布号 2019306502170 申请公布日 2019-11-25
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 刘东阳;范昱宏
专利权人 中国地质大学(北京)
专利摘要 1.本外观设计产品的名称:地质勘探岩层分析设备。2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于通过测定分析岩石中各氧化物的相对含量,以便正确确定地质勘探岩层的种类。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图。
专利价值评估分析
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