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专利基本信息
专利名称 一种基于二氧化硅隧道结的阻变存储器及其制备方法
专利状态 - 专利号（申请号） CN106025066B
专利申请日期 2016-06-02 专利类型 发明专利
申请公布号 2016103881931 申请公布日 2016-06-02
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 闫小兵;周振宇;赵建辉;张园园
专利权人 河北大学
专利摘要 本发明公开了一种基于二氧化硅隧道结的阻变存储器,其是在高导Si衬底上制有SiO2隧穿层,并在所述SiO2隧穿层上制有TiN电极膜层。并且,本发明还公开了该阻变存储器的制备方法,其包括如下步骤:A、将高导Si衬底进行清洗处理并吹干,备用;B、将备用的高导Si衬底放入热氧化生长炉中并通入氧气,于600±5℃条件下退火分钟,形成SiO2隧穿层;C、在形成的SiO2隧穿层上溅射TiN电极膜层。本发明的存储器的高、低阻态阻值分布集中,且高电阻值和低电阻值之间相差较大。而且,该阻变存储器具有明显的开关效应,再有,该阻变存储器在高阻态和低阻态下的抗疲劳特性均比较优异,具有良好的应用前景。
专利价值评估分析
专利价值评估分析 样例
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