专利基本信息
| 专利名称 | 一种面向公差技术的基准参考框架自动建立方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN105740522B |
| 专利申请日期 | 2016-01-26 | 专利类型 | 发明专利 |
| 申请公布号 | 2016100525314 | 申请公布日 | 2016-01-26 |
| 授权公告号 | - | 授权公告日 | - |
| 发明人 | 吴玉光;顾齐齐 | ||
| 专利权人 | 杭州电子科技大学 | ||
| 专利摘要 | 本发明公开了面向公差技术的基准参考框架自动建立方法:1)从零件三维CAD模型中获取几何公差标注信息;2)对基准体系中的每一个基准要素,确定该基准要素的导出几何要素,构成当前基准要素的导出几何集合;3)对第一基准要素的导出基准几何直接确定为构造元素;4)对第二基准要素的导出几何要素利用构造元素的递归确定算法进行运算,确定有效的导出几何、确定基准体系的剩余构造元素,并将有效结果存入已知构造元素集合;5)验证基准的有效性,当存在有效性问题时,给出出错提示信息,并退出程序流程;6)对第三基准要素进行步骤4)、5)的操作;7)检查基准体系约束自由度的完备性,如果存在未确定的构造元素,则给出出错提示信息,决定是否继续程序流程。 | ||
专利价值评估分析
专利价值评估分析
样例
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