专利基本信息
| 专利名称 | 基于SIFT的DWT‑SVD抗几何攻击盲水印方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN103955878B |
| 专利申请日期 | 2014-04-11 | 专利类型 | 发明专利 |
| 申请公布号 | 2014101460267 | 申请公布日 | 2014-04-11 |
| 授权公告号 | - | 授权公告日 | - |
| 发明人 | 叶学义;陈雪婷;邓猛;汪云路;何志伟;赵知劲 | ||
| 专利权人 | 杭州电子科技大学 | ||
| 专利摘要 | 本发明涉及一种基于SIFT的DWT‑SVD抗几何攻击盲水印方法。本发明方法包括水印嵌入方法和水印提取方法。水印嵌入方法是对原始图像进行离散小波变换,将其低频子带分块并对每小块进行奇异值分解,再将待嵌入水印进行混沌加密,在每小块的最大奇异值中通过一种最优量化方法嵌入水印,保存水印图像的SIFT特征点作为密钥,通过密钥判断受到几何攻击类型并进行校正。水印提取方法是水印嵌入方法的逆过程,包括对受攻击图像进行校正、水印提取,水印解密和恢复。本发明利用SIFT特征点的旋转、缩放、平移不变性,并结合DWT、SVD在数字水印方面的优势,显著地提高了对几何攻击的鲁棒性。 | ||
专利价值评估分析
专利价值评估分析
样例
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