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一种刮板式核桃去壳机
成熟度：正在研发
技术类型：实用新型
应用行业：制造业
技术简介
一种刮板式核桃去壳机，它涉及一种核桃去壳装置，箱座(4)的上部设置有料斗(3)，箱座(4)的前侧设置有箱盖(1)，箱座(4)的内侧中间的下部设置有刮板固定架(8)，刮板(9)固定在刮板固定架(8)上，吸风管(10)的另一端设置在箱座(4)下部的出料口的一侧，箱座(4)下部的出料口的另一侧设置有核桃壳出口(26)，吸风管(10)的一侧设置有风控开关(17)，半圆形的栅条(28)设置在箱座(4)的下半箱中，栅条(28)的上部设置有锁紧板(29)，栅条(28)的下部设置有栅条固定墙板(27)。它造价低，操作轻便，损失少，稳定性好，实用性强。
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一种V形拦污栅
成熟度：正在研发
技术类型：-
应用行业：建筑业
技术简介
一种V形拦污栅。 成果简介： 泵站前设置拦污栅能够阻止污物（主要是水草）进入水泵，保证水泵机组运行安全。拦污栅一般采用平面形，与水面成75°或90°置于引水河道中或泵站进水池（进水流道）前。对于面广量大的农村中小型泵站，栅前污物以水草为主，水草比重小于水体，浮于水面的水草首先堵塞上部栅面，上部栅面水草如果不及时清除，在流速较大的情况下，后续水草容易随水流潜入水下堵塞中部和下部栅面，拦污水头损失急剧增大至0.3~1.0 m左右，造成人工清污困难，泵装置扬程增大，流量减小，泵站效率降低，严重时还会造成水泵汽蚀，栅体垮塌。因此，中小型泵站需要一种拦污阻力小、便于人工清污的拦污栅。 本发明针对目前中小型泵站广泛采用的单扇平面形拦污栅拦污阻力大、清污困难等问题，通过理论分析、流动数值模拟和试验研究设计出一种拦污阻力小、便于清污的V形拦污栅。 本发明的技术方案是，一种V形拦污栅，其特征在于，所述V形拦污栅由两块平面栅固定在立柱上构成，立柱位于两块平面栅构成的V形角顶端，所述平面栅由栅条、竖梁、边梁组成，栅条水平设置，所述立柱的高度大于或等于竖梁的高度和设置V形拦污栅的过流断面的水深度，V形拦污栅的顶端迎向水流，V形拦污栅上的拦截污物沿平面栅的栅条向V形两侧滑移聚集。 主要技术（性能）指标： （1）拦污水头损失较小，栅体承载能力更大，便于岸边人工及时清污； （2）省去清污工作桥，减少投资成本； （3）降低泵站运行费用，减少清污费用。 市场前景：可应用于调水、灌溉、排涝泵站，可产生显著的经济效益。 应用范围：调水、灌溉、排涝泵站。 合作方式：技术转让、技术入股、技术服务
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一种表面等离子体慢光波导
成熟度：正在研发
技术类型：实用新型
应用行业：制造业
技术简介
本实用新型为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本实用新型表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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一种表面等离子体 慢光波导
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本发明表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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一种刮板式核桃去壳机
成熟度：正在研发
技术类型：实用新型
应用行业：制造业
技术简介
一种刮板式核桃去壳机，它涉及一种核桃去壳装置，箱座(4)的上部设置有料斗(3)，箱座(4)的前侧设置有箱盖(1)，箱座(4)的内侧中间的下部设置有刮板固定架(8)，刮板(9)固定在刮板固定架(8)上，吸风管(10)的另一端设置在箱座(4)下部的出料口的一侧，箱座(4)下部的出料口的另一侧设置有核桃壳出口(26)，吸风管(10)的一侧设置有风控开关(17)，半圆形的栅条(28)设置在箱座(4)的下半箱中，栅条(28)的上部设置有锁紧板(29)，栅条(28)的下部设置有栅条固定墙板(27)。它造价低，操作轻便，损失少，稳定性好，实用性强。
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一种V形拦污栅
成熟度：正在研发
技术类型：-
应用行业：建筑业
技术简介
一种V形拦污栅。 成果简介： 泵站前设置拦污栅能够阻止污物（主要是水草）进入水泵，保证水泵机组运行安全。拦污栅一般采用平面形，与水面成75°或90°置于引水河道中或泵站进水池（进水流道）前。对于面广量大的农村中小型泵站，栅前污物以水草为主，水草比重小于水体，浮于水面的水草首先堵塞上部栅面，上部栅面水草如果不及时清除，在流速较大的情况下，后续水草容易随水流潜入水下堵塞中部和下部栅面，拦污水头损失急剧增大至0.3~1.0 m左右，造成人工清污困难，泵装置扬程增大，流量减小，泵站效率降低，严重时还会造成水泵汽蚀，栅体垮塌。因此，中小型泵站需要一种拦污阻力小、便于人工清污的拦污栅。 本发明针对目前中小型泵站广泛采用的单扇平面形拦污栅拦污阻力大、清污困难等问题，通过理论分析、流动数值模拟和试验研究设计出一种拦污阻力小、便于清污的V形拦污栅。 本发明的技术方案是，一种V形拦污栅，其特征在于，所述V形拦污栅由两块平面栅固定在立柱上构成，立柱位于两块平面栅构成的V形角顶端，所述平面栅由栅条、竖梁、边梁组成，栅条水平设置，所述立柱的高度大于或等于竖梁的高度和设置V形拦污栅的过流断面的水深度，V形拦污栅的顶端迎向水流，V形拦污栅上的拦截污物沿平面栅的栅条向V形两侧滑移聚集。 主要技术（性能）指标： （1）拦污水头损失较小，栅体承载能力更大，便于岸边人工及时清污； （2）省去清污工作桥，减少投资成本； （3）降低泵站运行费用，减少清污费用。 市场前景：可应用于调水、灌溉、排涝泵站，可产生显著的经济效益。 应用范围：调水、灌溉、排涝泵站。 合作方式：技术转让、技术入股、技术服务
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一种表面等离子体慢光波导
成熟度：正在研发
技术类型：实用新型
应用行业：制造业
技术简介
本实用新型为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本实用新型表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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一种表面等离子体 慢光波导
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本发明表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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一种刮板式核桃去壳机
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一种刮板式核桃去壳机，它涉及一种核桃去壳装置，箱座(4)的上部设置有料斗(3)，箱座(4)的前侧设置有箱盖(1)，箱座(4)的内侧中间的下部设置有刮板固定架(8)，刮板(9)固定在刮板固定架(8)上，吸风管(10)的另一端设置在箱座(4)下部的出料口的一侧，箱座(4)下部的出料口的另一侧设置有核桃壳出口(26)，吸风管(10)的一侧设置有风控开关(17)，半圆形的栅条(28)设置在箱座(4)的下半箱中，栅条(28)的上部设置有锁紧板(29)，栅条(28)的下部设置有栅条固定墙板(27)。它造价低，操作轻便，损失少，稳定性好，实用性强。
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一种V形拦污栅
成熟度：正在研发
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一种V形拦污栅。 成果简介： 泵站前设置拦污栅能够阻止污物（主要是水草）进入水泵，保证水泵机组运行安全。拦污栅一般采用平面形，与水面成75°或90°置于引水河道中或泵站进水池（进水流道）前。对于面广量大的农村中小型泵站，栅前污物以水草为主，水草比重小于水体，浮于水面的水草首先堵塞上部栅面，上部栅面水草如果不及时清除，在流速较大的情况下，后续水草容易随水流潜入水下堵塞中部和下部栅面，拦污水头损失急剧增大至0.3~1.0 m左右，造成人工清污困难，泵装置扬程增大，流量减小，泵站效率降低，严重时还会造成水泵汽蚀，栅体垮塌。因此，中小型泵站需要一种拦污阻力小、便于人工清污的拦污栅。 本发明针对目前中小型泵站广泛采用的单扇平面形拦污栅拦污阻力大、清污困难等问题，通过理论分析、流动数值模拟和试验研究设计出一种拦污阻力小、便于清污的V形拦污栅。 本发明的技术方案是，一种V形拦污栅，其特征在于，所述V形拦污栅由两块平面栅固定在立柱上构成，立柱位于两块平面栅构成的V形角顶端，所述平面栅由栅条、竖梁、边梁组成，栅条水平设置，所述立柱的高度大于或等于竖梁的高度和设置V形拦污栅的过流断面的水深度，V形拦污栅的顶端迎向水流，V形拦污栅上的拦截污物沿平面栅的栅条向V形两侧滑移聚集。 主要技术（性能）指标： （1）拦污水头损失较小，栅体承载能力更大，便于岸边人工及时清污； （2）省去清污工作桥，减少投资成本； （3）降低泵站运行费用，减少清污费用。 市场前景：可应用于调水、灌溉、排涝泵站，可产生显著的经济效益。 应用范围：调水、灌溉、排涝泵站。 合作方式：技术转让、技术入股、技术服务
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一种表面等离子体慢光波导
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应用行业：制造业
技术简介
本实用新型为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本实用新型表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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一种表面等离子体 慢光波导
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
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本发明为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本发明表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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一种刮板式核桃去壳机，它涉及一种核桃去壳装置，箱座(4)的上部设置有料斗(3)，箱座(4)的前侧设置有箱盖(1)，箱座(4)的内侧中间的下部设置有刮板固定架(8)，刮板(9)固定在刮板固定架(8)上，吸风管(10)的另一端设置在箱座(4)下部的出料口的一侧，箱座(4)下部的出料口的另一侧设置有核桃壳出口(26)，吸风管(10)的一侧设置有风控开关(17)，半圆形的栅条(28)设置在箱座(4)的下半箱中，栅条(28)的上部设置有锁紧板(29)，栅条(28)的下部设置有栅条固定墙板(27)。它造价低，操作轻便，损失少，稳定性好，实用性强。
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一种V形拦污栅
成熟度：正在研发
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应用行业：建筑业
技术简介
一种V形拦污栅。 成果简介： 泵站前设置拦污栅能够阻止污物（主要是水草）进入水泵，保证水泵机组运行安全。拦污栅一般采用平面形，与水面成75°或90°置于引水河道中或泵站进水池（进水流道）前。对于面广量大的农村中小型泵站，栅前污物以水草为主，水草比重小于水体，浮于水面的水草首先堵塞上部栅面，上部栅面水草如果不及时清除，在流速较大的情况下，后续水草容易随水流潜入水下堵塞中部和下部栅面，拦污水头损失急剧增大至0.3~1.0 m左右，造成人工清污困难，泵装置扬程增大，流量减小，泵站效率降低，严重时还会造成水泵汽蚀，栅体垮塌。因此，中小型泵站需要一种拦污阻力小、便于人工清污的拦污栅。 本发明针对目前中小型泵站广泛采用的单扇平面形拦污栅拦污阻力大、清污困难等问题，通过理论分析、流动数值模拟和试验研究设计出一种拦污阻力小、便于清污的V形拦污栅。 本发明的技术方案是，一种V形拦污栅，其特征在于，所述V形拦污栅由两块平面栅固定在立柱上构成，立柱位于两块平面栅构成的V形角顶端，所述平面栅由栅条、竖梁、边梁组成，栅条水平设置，所述立柱的高度大于或等于竖梁的高度和设置V形拦污栅的过流断面的水深度，V形拦污栅的顶端迎向水流，V形拦污栅上的拦截污物沿平面栅的栅条向V形两侧滑移聚集。 主要技术（性能）指标： （1）拦污水头损失较小，栅体承载能力更大，便于岸边人工及时清污； （2）省去清污工作桥，减少投资成本； （3）降低泵站运行费用，减少清污费用。 市场前景：可应用于调水、灌溉、排涝泵站，可产生显著的经济效益。 应用范围：调水、灌溉、排涝泵站。 合作方式：技术转让、技术入股、技术服务
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一种表面等离子体慢光波导
成熟度：正在研发
技术类型：实用新型
应用行业：制造业
技术简介
本实用新型为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本实用新型表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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一种表面等离子体 慢光波导
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本发明为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本发明表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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一种刮板式核桃去壳机，它涉及一种核桃去壳装置，箱座(4)的上部设置有料斗(3)，箱座(4)的前侧设置有箱盖(1)，箱座(4)的内侧中间的下部设置有刮板固定架(8)，刮板(9)固定在刮板固定架(8)上，吸风管(10)的另一端设置在箱座(4)下部的出料口的一侧，箱座(4)下部的出料口的另一侧设置有核桃壳出口(26)，吸风管(10)的一侧设置有风控开关(17)，半圆形的栅条(28)设置在箱座(4)的下半箱中，栅条(28)的上部设置有锁紧板(29)，栅条(28)的下部设置有栅条固定墙板(27)。它造价低，操作轻便，损失少，稳定性好，实用性强。
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一种V形拦污栅
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技术类型：-
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一种V形拦污栅。 成果简介： 泵站前设置拦污栅能够阻止污物（主要是水草）进入水泵，保证水泵机组运行安全。拦污栅一般采用平面形，与水面成75°或90°置于引水河道中或泵站进水池（进水流道）前。对于面广量大的农村中小型泵站，栅前污物以水草为主，水草比重小于水体，浮于水面的水草首先堵塞上部栅面，上部栅面水草如果不及时清除，在流速较大的情况下，后续水草容易随水流潜入水下堵塞中部和下部栅面，拦污水头损失急剧增大至0.3~1.0 m左右，造成人工清污困难，泵装置扬程增大，流量减小，泵站效率降低，严重时还会造成水泵汽蚀，栅体垮塌。因此，中小型泵站需要一种拦污阻力小、便于人工清污的拦污栅。 本发明针对目前中小型泵站广泛采用的单扇平面形拦污栅拦污阻力大、清污困难等问题，通过理论分析、流动数值模拟和试验研究设计出一种拦污阻力小、便于清污的V形拦污栅。 本发明的技术方案是，一种V形拦污栅，其特征在于，所述V形拦污栅由两块平面栅固定在立柱上构成，立柱位于两块平面栅构成的V形角顶端，所述平面栅由栅条、竖梁、边梁组成，栅条水平设置，所述立柱的高度大于或等于竖梁的高度和设置V形拦污栅的过流断面的水深度，V形拦污栅的顶端迎向水流，V形拦污栅上的拦截污物沿平面栅的栅条向V形两侧滑移聚集。 主要技术（性能）指标： （1）拦污水头损失较小，栅体承载能力更大，便于岸边人工及时清污； （2）省去清污工作桥，减少投资成本； （3）降低泵站运行费用，减少清污费用。 市场前景：可应用于调水、灌溉、排涝泵站，可产生显著的经济效益。 应用范围：调水、灌溉、排涝泵站。 合作方式：技术转让、技术入股、技术服务
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一种表面等离子体慢光波导
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本实用新型为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本实用新型表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本发明表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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一种刮板式核桃去壳机，它涉及一种核桃去壳装置，箱座(4)的上部设置有料斗(3)，箱座(4)的前侧设置有箱盖(1)，箱座(4)的内侧中间的下部设置有刮板固定架(8)，刮板(9)固定在刮板固定架(8)上，吸风管(10)的另一端设置在箱座(4)下部的出料口的一侧，箱座(4)下部的出料口的另一侧设置有核桃壳出口(26)，吸风管(10)的一侧设置有风控开关(17)，半圆形的栅条(28)设置在箱座(4)的下半箱中，栅条(28)的上部设置有锁紧板(29)，栅条(28)的下部设置有栅条固定墙板(27)。它造价低，操作轻便，损失少，稳定性好，实用性强。
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一种V形拦污栅。 成果简介： 泵站前设置拦污栅能够阻止污物（主要是水草）进入水泵，保证水泵机组运行安全。拦污栅一般采用平面形，与水面成75°或90°置于引水河道中或泵站进水池（进水流道）前。对于面广量大的农村中小型泵站，栅前污物以水草为主，水草比重小于水体，浮于水面的水草首先堵塞上部栅面，上部栅面水草如果不及时清除，在流速较大的情况下，后续水草容易随水流潜入水下堵塞中部和下部栅面，拦污水头损失急剧增大至0.3~1.0 m左右，造成人工清污困难，泵装置扬程增大，流量减小，泵站效率降低，严重时还会造成水泵汽蚀，栅体垮塌。因此，中小型泵站需要一种拦污阻力小、便于人工清污的拦污栅。 本发明针对目前中小型泵站广泛采用的单扇平面形拦污栅拦污阻力大、清污困难等问题，通过理论分析、流动数值模拟和试验研究设计出一种拦污阻力小、便于清污的V形拦污栅。 本发明的技术方案是，一种V形拦污栅，其特征在于，所述V形拦污栅由两块平面栅固定在立柱上构成，立柱位于两块平面栅构成的V形角顶端，所述平面栅由栅条、竖梁、边梁组成，栅条水平设置，所述立柱的高度大于或等于竖梁的高度和设置V形拦污栅的过流断面的水深度，V形拦污栅的顶端迎向水流，V形拦污栅上的拦截污物沿平面栅的栅条向V形两侧滑移聚集。 主要技术（性能）指标： （1）拦污水头损失较小，栅体承载能力更大，便于岸边人工及时清污； （2）省去清污工作桥，减少投资成本； （3）降低泵站运行费用，减少清污费用。 市场前景：可应用于调水、灌溉、排涝泵站，可产生显著的经济效益。 应用范围：调水、灌溉、排涝泵站。 合作方式：技术转让、技术入股、技术服务
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应用行业：制造业
技术简介
本实用新型为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本实用新型表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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应用行业：制造业
技术简介
本发明为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本发明表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
找到4项技术成果数据。
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一种刮板式核桃去壳机
成熟度：正在研发
技术类型：实用新型
应用行业：制造业
技术简介
一种刮板式核桃去壳机，它涉及一种核桃去壳装置，箱座(4)的上部设置有料斗(3)，箱座(4)的前侧设置有箱盖(1)，箱座(4)的内侧中间的下部设置有刮板固定架(8)，刮板(9)固定在刮板固定架(8)上，吸风管(10)的另一端设置在箱座(4)下部的出料口的一侧，箱座(4)下部的出料口的另一侧设置有核桃壳出口(26)，吸风管(10)的一侧设置有风控开关(17)，半圆形的栅条(28)设置在箱座(4)的下半箱中，栅条(28)的上部设置有锁紧板(29)，栅条(28)的下部设置有栅条固定墙板(27)。它造价低，操作轻便，损失少，稳定性好，实用性强。
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一种V形拦污栅
成熟度：正在研发
技术类型：-
应用行业：建筑业
技术简介
一种V形拦污栅。 成果简介： 泵站前设置拦污栅能够阻止污物（主要是水草）进入水泵，保证水泵机组运行安全。拦污栅一般采用平面形，与水面成75°或90°置于引水河道中或泵站进水池（进水流道）前。对于面广量大的农村中小型泵站，栅前污物以水草为主，水草比重小于水体，浮于水面的水草首先堵塞上部栅面，上部栅面水草如果不及时清除，在流速较大的情况下，后续水草容易随水流潜入水下堵塞中部和下部栅面，拦污水头损失急剧增大至0.3~1.0 m左右，造成人工清污困难，泵装置扬程增大，流量减小，泵站效率降低，严重时还会造成水泵汽蚀，栅体垮塌。因此，中小型泵站需要一种拦污阻力小、便于人工清污的拦污栅。 本发明针对目前中小型泵站广泛采用的单扇平面形拦污栅拦污阻力大、清污困难等问题，通过理论分析、流动数值模拟和试验研究设计出一种拦污阻力小、便于清污的V形拦污栅。 本发明的技术方案是，一种V形拦污栅，其特征在于，所述V形拦污栅由两块平面栅固定在立柱上构成，立柱位于两块平面栅构成的V形角顶端，所述平面栅由栅条、竖梁、边梁组成，栅条水平设置，所述立柱的高度大于或等于竖梁的高度和设置V形拦污栅的过流断面的水深度，V形拦污栅的顶端迎向水流，V形拦污栅上的拦截污物沿平面栅的栅条向V形两侧滑移聚集。 主要技术（性能）指标： （1）拦污水头损失较小，栅体承载能力更大，便于岸边人工及时清污； （2）省去清污工作桥，减少投资成本； （3）降低泵站运行费用，减少清污费用。 市场前景：可应用于调水、灌溉、排涝泵站，可产生显著的经济效益。 应用范围：调水、灌溉、排涝泵站。 合作方式：技术转让、技术入股、技术服务
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一种表面等离子体慢光波导
成熟度：正在研发
技术类型：实用新型
应用行业：制造业
技术简介
本实用新型为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本实用新型表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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一种表面等离子体 慢光波导
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本发明表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
找到4项技术成果数据。
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一种刮板式核桃去壳机
成熟度：正在研发
技术类型：实用新型
应用行业：制造业
技术简介
一种刮板式核桃去壳机，它涉及一种核桃去壳装置，箱座(4)的上部设置有料斗(3)，箱座(4)的前侧设置有箱盖(1)，箱座(4)的内侧中间的下部设置有刮板固定架(8)，刮板(9)固定在刮板固定架(8)上，吸风管(10)的另一端设置在箱座(4)下部的出料口的一侧，箱座(4)下部的出料口的另一侧设置有核桃壳出口(26)，吸风管(10)的一侧设置有风控开关(17)，半圆形的栅条(28)设置在箱座(4)的下半箱中，栅条(28)的上部设置有锁紧板(29)，栅条(28)的下部设置有栅条固定墙板(27)。它造价低，操作轻便，损失少，稳定性好，实用性强。
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一种V形拦污栅
成熟度：正在研发
技术类型：-
应用行业：建筑业
技术简介
一种V形拦污栅。 成果简介： 泵站前设置拦污栅能够阻止污物（主要是水草）进入水泵，保证水泵机组运行安全。拦污栅一般采用平面形，与水面成75°或90°置于引水河道中或泵站进水池（进水流道）前。对于面广量大的农村中小型泵站，栅前污物以水草为主，水草比重小于水体，浮于水面的水草首先堵塞上部栅面，上部栅面水草如果不及时清除，在流速较大的情况下，后续水草容易随水流潜入水下堵塞中部和下部栅面，拦污水头损失急剧增大至0.3~1.0 m左右，造成人工清污困难，泵装置扬程增大，流量减小，泵站效率降低，严重时还会造成水泵汽蚀，栅体垮塌。因此，中小型泵站需要一种拦污阻力小、便于人工清污的拦污栅。 本发明针对目前中小型泵站广泛采用的单扇平面形拦污栅拦污阻力大、清污困难等问题，通过理论分析、流动数值模拟和试验研究设计出一种拦污阻力小、便于清污的V形拦污栅。 本发明的技术方案是，一种V形拦污栅，其特征在于，所述V形拦污栅由两块平面栅固定在立柱上构成，立柱位于两块平面栅构成的V形角顶端，所述平面栅由栅条、竖梁、边梁组成，栅条水平设置，所述立柱的高度大于或等于竖梁的高度和设置V形拦污栅的过流断面的水深度，V形拦污栅的顶端迎向水流，V形拦污栅上的拦截污物沿平面栅的栅条向V形两侧滑移聚集。 主要技术（性能）指标： （1）拦污水头损失较小，栅体承载能力更大，便于岸边人工及时清污； （2）省去清污工作桥，减少投资成本； （3）降低泵站运行费用，减少清污费用。 市场前景：可应用于调水、灌溉、排涝泵站，可产生显著的经济效益。 应用范围：调水、灌溉、排涝泵站。 合作方式：技术转让、技术入股、技术服务
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一种表面等离子体慢光波导
成熟度：正在研发
技术类型：实用新型
应用行业：制造业
技术简介
本实用新型为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本实用新型表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。
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一种表面等离子体 慢光波导
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明为一种表面等离子体慢光波导，金属基底为上下两块，介质光栅的栅条上、下两端分别经加载介质层与上、下金属基底连接。 介质光栅的栅条以上、下金属基底之间的水平中心线为上下对称，各栅条的宽度a相等、间距b相等，栅条的高度由一端向另一端以相同的增幅2dh逐渐递增，最少为4根栅条。 栅条之间为空气或者为真空。最优选择金属基底为银，介质光栅为硅，加载介质层为二氧化硅。 本发明表面等离子体的传输损耗大幅度下降，在一定范围内同时具备传播速度小和损耗小的优势，上下金属基底包围了介质光栅，场被约束在栅条中，有极强场的约束性，同时得到损耗低、约束性强及群速度小的优势。