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专利基本信息
专利名称 一种中心进气的电弧离子镀装置
专利状态 - 专利号（申请号） CN213113472U
专利申请日期 2020-07-28 专利类型 实用新型专利
申请公布号 2020215165737 申请公布日 2020-07-28
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 郎文昌;刘伟;陈智杰;黄志宏
专利权人 温州职业技术学院
专利摘要 本实用新型属于涉及电弧离子镀技术关键部件阴极弧源装备领域,具体涉及一种中心进气的电弧离子镀装置,包括阴极盖和阴极座,所述阴极盖和阴极座相连接形成阴极组件,所述阴极座远离阴极盖的一侧表面上设有靶材安装部,所述靶材安装部上连接有靶材,所述靶材中心处设有第一通孔,所述阴极座上设有连通第一通孔的第二通孔,所述阴极盖上设有连通第二通孔的第三通孔,所述第一通孔、第二通孔、第三通孔形成进气管路。本实用新型采用中心通气实现工艺气体从靶材中心进入,增大沉积化合物相的能量,优化涂层结构,降低弧光放电的熔池大小,抑制大颗粒的产生。
专利价值评估分析
专利价值评估分析 样例
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