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专利基本信息
专利名称 一种POSS改性高阻隔三层共挤包装薄膜及其制备方法
专利状态 专利权维持 专利号(申请号) 2010105026461
专利申请日期 2010-10-11 专利类型 发明专利
申请公布号 201010502646 申请公布日 2010-10-11
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 -
专利权人 厦门大学;厦门顺峰包装材料有限公司
专利摘要 一种POSS改性高阻隔三层共挤包装薄膜及其制备方法,涉及一种包装薄膜。提供一种具有阻隔性能、力学性能、耐热性能和透明性较好的多面体低聚倍半硅氧烷改性高阻隔三层共挤包装薄膜及其制备方法。薄膜包括外、中、里三层,外层薄膜组份为低密度聚乙烯、线型低密度聚乙烯和多面体低聚倍半硅氧烷改性剂,中层薄膜组份为乙烯-乙烯醇共聚物和增容树脂,里层薄膜组份为LDPE、LLDPE和开口剂。先制备多面体低聚倍半硅氧烷改性剂,再制备含多面体低聚倍半硅氧烷改性剂的外层薄膜母粒,最后制备多面体低聚倍半硅氧烷改性高阻隔三层共挤包装薄膜。
专利价值评估分析
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