专利基本信息
| 专利名称 | 一种采用含镁化合物去除工业硅中硼磷杂质的方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | 专利权维持 | 专利号(申请号) | 2011100009943 |
| 专利申请日期 | 2011-01-05 | 专利类型 | 发明专利 |
| 申请公布号 | 201110000994 | 申请公布日 | 2011-01-05 |
| 授权公告号 | - | 授权公告日 | - |
| 发明人 | - | ||
| 专利权人 | 厦门大学 | ||
| 专利摘要 | 一种采用含镁化合物去除工业硅中硼磷杂质的方法,涉及一种工业硅。利用中频感应炉将造渣剂和硅料熔化,使硅料中的B和P形成氧化物进入渣相中从而达到提纯目的。确定了达到氧化除硼最大效率的成分配比,并同时给定了工业生产过程中的渣硅比、中频熔炼功率、反应温度、反应时间、搅拌速度等工艺参数的合适范围,形成一套低成本又可工业量产的太阳能级多晶硅生产工艺。具有渣剂多次使用、可连续化生产和操作简单等优点。可以将工业硅中的B含量从8ppmw降低到0.1~0.5ppmw,P含量从15ppmw降低到1~3ppmw。 | ||
专利价值评估分析
专利价值评估分析
样例
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