专利基本信息
| 专利名称 | 一种多功能单双面连续式卷绕磁控溅射镀膜设备 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN205803586U |
| 专利申请日期 | 2016-07-26 | 专利类型 | 实用新型专利 |
| 申请公布号 | 2016208019570 | 申请公布日 | 2016-07-26 |
| 授权公告号 | - | 授权公告日 | - |
| 发明人 | 高进伟;容齐坤;金名亮 | ||
| 专利权人 | 华南师范大学;深圳市星国华先进装备科技有限公司 | ||
| 专利摘要 | 本实用新型公开了一种多功能单双面连续式卷绕磁控溅射镀膜设备,包括电控装置、真空腔、抽真空装置、磁控溅射镀膜装置和卷绕机构,卷绕机构主要由放卷机构、收卷机构和输送机构组成,输送机构包括镀膜支承辊,镀膜支承辊和磁控溅射镀膜装置分别为一对,镀膜支承辊为半环形,放卷机构位于其中一个镀膜支承辊围括的区域内,收卷机构位于另一个镀膜支承辊围括的区域内,每个镀膜支承辊的辊面分别与一个磁控溅射镀膜装置相对应,经过两个镀膜支承辊的柔性衬底的外表面分别是该柔性衬底的两个面。本实用新型可实现一次性同时双面镀膜,提高了生产效率,也可根据工艺需求选择单面镀膜以及单面镀双层复合膜,且节约了腔体内部空间,减小了腔体体积。 | ||
专利价值评估分析
专利价值评估分析
样例
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