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专利基本信息
专利名称 一种蜡纸掩模及其制备方法
专利状态 - 专利号（申请号） CN105045036B
专利申请日期 2015-08-24 专利类型 发明专利
申请公布号 2015105286758 申请公布日 2015-08-24
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 蔡洪冰;王晓平;罗毅
专利权人 中国科学技术大学
专利摘要 本发明提供了一种蜡纸掩模的制备方法及其应用,本发明通过将重均分子量为50000~950000的聚甲基丙烯酸甲酯在曝光剂量为210~430μC/cm2的条件下曝光,然后定影,显影得到蜡纸掩模,使得制备得到的蜡纸掩膜在一次性成型的同时,该掩膜同时含有用于纳米颗粒成型的含孔隙的薄膜层以及含较大腔体的支撑层,且支撑层中的空腔位于孔的下方,且空腔的横截面积大于孔隙的横截面积,进而使得该掩膜与衬底能够紧密结合,用于纳米颗粒的成型时,有效降低晕影效应。
专利价值评估分析
专利价值评估分析 样例
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