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专利基本信息
专利名称 基于静电吸附的快速、选择性转印装置及其制造方法
专利状态 - 专利号（申请号） CN110228283B
专利申请日期 2019-07-18 专利类型 发明专利
申请公布号 2019106485920 申请公布日 2019-07-18
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 张一慧;庞文博;程旭;张帆
专利权人 清华大学
专利摘要 本公开涉及一种转印装置及其制造方法。该装置包括:多个转印吸附部件,其正极电极和负极电极设置于绝缘填充层中、且被绝缘填充层中绝缘填充物分隔;可拉伸层,位于绝缘填充层上方,正极电极引线和负极电极引线位于绝缘填充层和可拉伸层中并延伸出可拉伸层;电介质层位于绝缘填充层的下方,覆盖绝缘填充层,用于与承载有待转印部件的施主基底接触,每个待转印部件所在位置与至少一个转印吸附部件相对应;多个转印吸附部件中的一个或多个通电后,转印吸附部件利用通电产生的静电吸附力与对应的待转印部件吸附在一起,以便于将其从施主基底上脱离,能够实现快速、高分辨率、可选择性、可编程性转印、成本低、可靠性高、适用范围广。
专利价值评估分析
专利价值评估分析 样例
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