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专利基本信息
专利名称 一种预置带电粒子多弧离子镀膜装置
专利状态 - 专利号（申请号） CN207121635U
专利申请日期 2017-08-04 专利类型 实用新型专利
申请公布号 2017209750407 申请公布日 2017-08-04
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 许建平;陈晶;齐海群;王佳杰;于久灏;杨闯
专利权人 黑龙江工程学院
专利摘要 一种预置带点粒子多弧离子镀膜装置,它涉及一种多弧离子镀膜装置,具体涉及一种预置带点粒子多弧离子镀膜装置。本实用新型为了保持多弧离子镀高沉积速率特点,在源头区域有效地抑制大颗粒缺陷,从改善阴极弧靶引弧特性并增加阴极斑点密度的角度。本实用新型包括电弧阴极、电弧阳极、绝缘片、磁场线圈、附加电弧阳极、电弧电源、阴极弧靶、真空腔室、真空泵组和多弧离子镀电源,电弧阴极、电弧阳极、绝缘片、磁场线圈、附加电弧阳极、电弧电源组成带电粒子源,磁场线圈、电弧阳极、绝缘片由上至下依次套装在真空腔室的上表面,工作气体经由电弧阴极进入真空腔室内,电弧阳极与电弧电源的正极连接,电弧阴极与电弧电源的负极连接;工件设置在真空腔室内;真空泵组与真空腔室左侧下部的出气口连接。本实用新型属于多弧离子镀领域。
专利价值评估分析
专利价值评估分析 样例
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