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专利基本信息
专利名称 ,一种基于化学机械抛光工艺的铟柱制备方法,
专利状态 - 专利号(申请号) CN104037101A
专利申请日期 2014-06-12 专利类型 发明专利
申请公布号 CN201410259001.8 申请公布日 2014-06-12
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 刘丹,陈昱,冯婧文,周松敏,曹菊英,林春,何高胤,胡晓宁
专利权人 中国科学院上海技术物理研究所
专利摘要 本发明公开了一种基于化学机械抛光工艺的铟柱制备方法,该方法是在焦平面器件上光刻铟孔并蒸发铟膜,利用具有弱腐蚀性的化学抛光液,通过化学机械抛光工艺制备铟柱。该种方法制备的铟柱具有高度一致性好、平整度高和致密等优点,能满足大面阵焦平面器件倒装互连的要求。本发明方法操作简单,便于在工艺上实现。
专利价值评估分析
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