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专利基本信息
专利名称 用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统
专利状态 - 专利号（申请号） CN210864056U
专利申请日期 2019-09-30 专利类型 实用新型专利
申请公布号 2019216492663 申请公布日 2019-09-30
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 张森;兰涛;毛文哲
专利权人 中国科学技术大学
专利摘要 本实用新型提供了一种用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统,包括:探测器和高速可见光相机;其中,所述探测器包括:探测器腔体;小孔,设于所述探测器腔体的第一端部;薄膜,设于所述小孔上;微通道板MCP,被置于所述探测器腔体内,并且面对所述小孔;荧光屏,被置于所述探测器腔体内,并且面对所述微通道板MCP;成像时,软X射线穿透所述小孔,透过所述薄膜,照射在所述微通道板MCP上,软X射线经过所述微通道板MCP后到达所述荧光屏上,所述荧光屏上的可见光射出所述探测器腔体,而后聚焦到所述高速可见光相机上。本实用新型提高了X射线探测成像的速度,并且可获得软X射线的辐射剖面和温度信息。
专利价值评估分析
专利价值评估分析 样例
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