找到34项技术成果数据。
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一种抛光液及其制备方法和用途
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本发明涉及一种化学机械抛光液及其制备方法和用途，所述抛光液包含磨粒、分散剂、氧化剂、缓蚀剂、pH调节剂、稳定剂及溶剂。本发明利用无机填料磷酸锆作为抛光磨粒。这种型抛光新材料与传统的片状氧化铝相比，分散性更好，稳定性高，沉降效果不明显。此外磷酸锆具有二维片层状结构，受到外力时会产生定向排列从而优化磨粒的取向，这样优化后的抛光磨粒在抛光过程中更加稳定，产生的划痕更少，整个抛光体系更加稳定，可达到更好的抛光效果。
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光电子单晶材料超光滑表面加工关键技术
成熟度：正在研发
技术类型：-
应用行业：采矿业
技术简介
技术投资分析：成果简介本项目采用化学机械超精密抛光方法，通过磨料微粒与工件加工面接触部分的化学反应以及抛光液的腐蚀作用在加工表面形成化学反应薄层，利用微粒的机械摩擦作用去除反应层，高效率获得钽酸锂单晶片超光滑抛光表面。本项目可根据被加工材料的特性，优选抛光液，获得提高抛光效率的化学反应层；并给出抛光盘转速、抛光压力、磨料粒度、抛光液PH值等主要抛光工艺参数的最优值，以实现高效率、高精度的晶片锯切和无损伤镜面抛光。技术的应用领域前景分析：本技术投资少，见效快，市场前景广，特别适合于中小企业生产。效益分析：本项目市场应用范围广，成本低，利润高，效益可观。厂房条件建议：无备注：无
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新型黄铜拉链牙的化学抛光技术
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本黄铜拉链牙的化学抛光技术具有抛光速度快（可达4 mg?cm-2?min-1）；抛光液较稳定；抛光效果好而且抛光后布带不退色（而且在150 0C以下温度烘干布带也不退色）；抛光液工艺环保，没有有毒气体或物质产生；工艺先进。目前已完成对H65和H80黄铜拉链抛光液配方和抛光工艺条件，抛光液在抛光过程的消耗规律及补加方案和有效成分的分析测试等，抛光后处理如钝化配方和工艺条件，相应的核心技术已申请国家发明专利，可随时进行合作试生产（中试实验）。抛光生产流程：碱性除油（加热70～80 0C，3～5分钟）→ 水洗 → 化学抛光（ 40 0C，1分钟，机械或空气搅拌，真空脱液并回收抛光液）→ 水洗 → 后处理（如上漆、钝化、氧化着色、化学镀等）。(a)钝化流程：钝化（40 0C，1分钟，需真空脱液并回收） → 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。(b)氧化着色、化学镀等流程： 氧化着色、化学镀等（需真空脱液并回收）→ 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。相应的主要设备及硬件要求：抛光池（加热装置），除油池（加热装置），水洗池，以上设备质地为PVC或其它硬质塑料，各若干个。机械搅拌机（或空气压缩搅拌）和烘干设备。要求水质：去离子水（离子交换树脂法得到）。
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一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明公开了一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺（专利号201110151813.7），抛光液以醇(甲醇、乙醇中的至少一种)和酸(硫酸、醋酸中的至少一种)作为其主体成分。本发明所提供的不锈钢表面抛光处理工艺包括以下步骤：除油污处理、超声振动水洗、超声振动酸洗、超声振动碱洗、电解抛光、超声振动水洗、钝化、清洗及烘干。与传统不锈钢电解抛光液相比，本抛光液既不含铬酸酐，减少了环境污染，废液易于处理，属于环保型抛光液；又不含价格昂贵的磷酸，降低了抛光成本，有利于不锈钢电解抛光工艺的推广。经试验证明，该抛光液及其工艺能有效除去不锈钢表面的氧化膜及划痕，并可使工件达到镜面光亮的效果，有效地提高抛光品质。
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一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液。本发明所述抛光液中包含研磨颗粒、络合剂、氧化剂，表面活性剂、抑菌剂和水，抑菌剂的含量为重量百分比0.001～1％；研磨颗粒含量为重量百分比3～15％；络合剂的含量为重量百分比1～5％；表面活性剂的含量为重量百分比0.01～1％；过氧化氢的含量为重量百分比0.5～3％；用水补足含量至重量百分比100％。本发明抛光液适用于下压力不大于5.516kPa时铜的精抛光，不包含腐蚀抑制剂。
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一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明属于金属表面处理技术领域，公开了一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺。所述抛光液包含60g/L～90g/L硝酸盐、60g/L～90g/L盐酸、120ml/L～180ml/L中强酸、20g/L～50g/L粘度调节剂、1g/L～10g/L缓蚀剂、2g/L～6g/L光亮剂和水。所述抛光工艺为：将金属工件进行脱脂活化前处理，然后置于抛光液中，在温度为60～100℃浸泡2.5～4min进行抛光，抛光完成后，将金属工件进行中和后处理，即可得到平整光滑的金属表面。本发明的化学抛光液安全环保，抛光效率高，成本低，适于工业化应用。
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一种化学抛光液及合金表面抛光处理方法
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种化学抛光液及合金表面处理方法，每升抛光液中各组分含量为：过硫酸盐30～100g，浓硫酸300～500ml，粘度调整剂10～40g，光亮剂2～14g，余量为水。将合金工件依次进行除油、清洗、酸洗活化、清洗；将上述经前处理后合金工件置于所述的化学抛光液中浸渍；抛光完成后，将合金工件依次清洗、钝化、清洗、烘干即可。本发明采用过硫酸钠作为氧化剂，抛光过程中不产生“黄烟”，绿色环保。且该抛光液成分简单，容易管控。所得化学抛光表面光亮、平整，可达镜面抛光效果。本发明的抛光液可以广泛的应用于铜合金表面的抛光。
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高性能纳米粒子抛光液
成熟度：通过中试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
是否验收 √ □ 是 □否 成果获奖情况 上海市科技进步三等奖有否样品或样机√ □ 有 □无 科研项目资助情况 国家自然科学基金相关评价和证明□项目可行性报告 □查新报告 □鉴定证书 √ □检测报告 □高新技术或新产品认定证书 √ □用户意见 □其他：技术成熟程度□已实现规模产业化 □已在工业领域或具体企业实际应用 □已实现小批量生产 √ □已通过中试验证 □处在中试阶段 □小试阶段 □处在实验室研发阶段 □其他：知识产权情况专利申请号 ZL200510023377.X 、 ZL201110298605.X是否己经授权 √ □ 是 □ 否技术成果简介化学机械抛光技术（CMP） 是迄今唯一的可以达到全局平面化的超精加工技术， 抛光液是 CMP 技术的关键要素。 纳米粒子 CMP 抛光液由纳米粒子（如氧化硅、 氧化铈等）、 氧化剂、 其他功能性助剂及溶剂组成。 可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等表面的纳米级及亚纳米级抛光。 目前，在计算机硬盘基片的抛光中可以达到表面粗糙度(Ra)小于 0.5 Å， 居国际先进水平。技术创新点或优势由纳米磨粒、功能助剂组成的纳米抛光液， 可以实现表面的超精抛光， 特征是达到纳米级或亚纳米级的表面粗糙度和波纹度， 该指标是目前对表面质量的最高要求。技术经济指标外观： 白色或淡黄色分散液； 粒径： 10-150 纳米； 固含量： 20-40%； PH 值： 1-6； 8-11。该技术属于 IT 产品制造中的高、 新技术产品， 市场前景好。 部分产品可替代进口。工业领域实际应用情况概述可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 不锈钢、 铝合金、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等金属或非金属材料表面的超精密（纳米级及亚纳米级）抛光。服务方式 √ □技术转让 √ □ 技术开发 □ 技术服务 □ 技术咨询
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超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光液的组成成分重量%是SiO2,GeO2,AlO3,ZrO,MgO的水溶胶18-50;无金属离子的羟胺类化合物和铵盐类化合物0.1-10；多羟多胺类化合物和铵盐类化合物0.005-25；非离子表面活性剂0.1-10；余量为去离子水。该抛光液损伤小,平整度高,易清洗;不腐蚀设备,不污染环境;选择性强,速率高;价格便宜,成本低。主要用于超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光，推广前景好。
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新型抛光液和BOS钝化液及工艺研究
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
该成果所研制的新工艺比厂方原工艺的抛光、钝化速度慢，原反应时间为５～１０秒，现增加到３分钟，这样有利于控制波纹管刚度，使超刚度率从５％下降到２％。用新工艺配方处理后的铜合金波纹管表面色泽金黄，均匀一致，钝化膜厚达１０微米。该工艺所用的化工原料立足国内市场，配制方便，使用周期长，操作无危害，成本降低。新的抛光、钝化液不含铬，废水处理方便。主要技术指标：抛光液系无色透明，溶液酸性，在室温下使用；ＢＯＳ钝化液呈微混，ＦＨ值６．５，在６０～７０℃时使用。
找到34项技术成果数据。
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一种抛光液及其制备方法和用途
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本发明涉及一种化学机械抛光液及其制备方法和用途，所述抛光液包含磨粒、分散剂、氧化剂、缓蚀剂、pH调节剂、稳定剂及溶剂。本发明利用无机填料磷酸锆作为抛光磨粒。这种型抛光新材料与传统的片状氧化铝相比，分散性更好，稳定性高，沉降效果不明显。此外磷酸锆具有二维片层状结构，受到外力时会产生定向排列从而优化磨粒的取向，这样优化后的抛光磨粒在抛光过程中更加稳定，产生的划痕更少，整个抛光体系更加稳定，可达到更好的抛光效果。
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光电子单晶材料超光滑表面加工关键技术
成熟度：正在研发
技术类型：-
应用行业：采矿业
技术简介
技术投资分析：成果简介本项目采用化学机械超精密抛光方法，通过磨料微粒与工件加工面接触部分的化学反应以及抛光液的腐蚀作用在加工表面形成化学反应薄层，利用微粒的机械摩擦作用去除反应层，高效率获得钽酸锂单晶片超光滑抛光表面。本项目可根据被加工材料的特性，优选抛光液，获得提高抛光效率的化学反应层；并给出抛光盘转速、抛光压力、磨料粒度、抛光液PH值等主要抛光工艺参数的最优值，以实现高效率、高精度的晶片锯切和无损伤镜面抛光。技术的应用领域前景分析：本技术投资少，见效快，市场前景广，特别适合于中小企业生产。效益分析：本项目市场应用范围广，成本低，利润高，效益可观。厂房条件建议：无备注：无
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新型黄铜拉链牙的化学抛光技术
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本黄铜拉链牙的化学抛光技术具有抛光速度快（可达4 mg?cm-2?min-1）；抛光液较稳定；抛光效果好而且抛光后布带不退色（而且在150 0C以下温度烘干布带也不退色）；抛光液工艺环保，没有有毒气体或物质产生；工艺先进。目前已完成对H65和H80黄铜拉链抛光液配方和抛光工艺条件，抛光液在抛光过程的消耗规律及补加方案和有效成分的分析测试等，抛光后处理如钝化配方和工艺条件，相应的核心技术已申请国家发明专利，可随时进行合作试生产（中试实验）。抛光生产流程：碱性除油（加热70～80 0C，3～5分钟）→ 水洗 → 化学抛光（ 40 0C，1分钟，机械或空气搅拌，真空脱液并回收抛光液）→ 水洗 → 后处理（如上漆、钝化、氧化着色、化学镀等）。(a)钝化流程：钝化（40 0C，1分钟，需真空脱液并回收） → 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。(b)氧化着色、化学镀等流程： 氧化着色、化学镀等（需真空脱液并回收）→ 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。相应的主要设备及硬件要求：抛光池（加热装置），除油池（加热装置），水洗池，以上设备质地为PVC或其它硬质塑料，各若干个。机械搅拌机（或空气压缩搅拌）和烘干设备。要求水质：去离子水（离子交换树脂法得到）。
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一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明公开了一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺（专利号201110151813.7），抛光液以醇(甲醇、乙醇中的至少一种)和酸(硫酸、醋酸中的至少一种)作为其主体成分。本发明所提供的不锈钢表面抛光处理工艺包括以下步骤：除油污处理、超声振动水洗、超声振动酸洗、超声振动碱洗、电解抛光、超声振动水洗、钝化、清洗及烘干。与传统不锈钢电解抛光液相比，本抛光液既不含铬酸酐，减少了环境污染，废液易于处理，属于环保型抛光液；又不含价格昂贵的磷酸，降低了抛光成本，有利于不锈钢电解抛光工艺的推广。经试验证明，该抛光液及其工艺能有效除去不锈钢表面的氧化膜及划痕，并可使工件达到镜面光亮的效果，有效地提高抛光品质。
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一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液。本发明所述抛光液中包含研磨颗粒、络合剂、氧化剂，表面活性剂、抑菌剂和水，抑菌剂的含量为重量百分比0.001～1％；研磨颗粒含量为重量百分比3～15％；络合剂的含量为重量百分比1～5％；表面活性剂的含量为重量百分比0.01～1％；过氧化氢的含量为重量百分比0.5～3％；用水补足含量至重量百分比100％。本发明抛光液适用于下压力不大于5.516kPa时铜的精抛光，不包含腐蚀抑制剂。
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一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明属于金属表面处理技术领域，公开了一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺。所述抛光液包含60g/L～90g/L硝酸盐、60g/L～90g/L盐酸、120ml/L～180ml/L中强酸、20g/L～50g/L粘度调节剂、1g/L～10g/L缓蚀剂、2g/L～6g/L光亮剂和水。所述抛光工艺为：将金属工件进行脱脂活化前处理，然后置于抛光液中，在温度为60～100℃浸泡2.5～4min进行抛光，抛光完成后，将金属工件进行中和后处理，即可得到平整光滑的金属表面。本发明的化学抛光液安全环保，抛光效率高，成本低，适于工业化应用。
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一种化学抛光液及合金表面抛光处理方法
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种化学抛光液及合金表面处理方法，每升抛光液中各组分含量为：过硫酸盐30～100g，浓硫酸300～500ml，粘度调整剂10～40g，光亮剂2～14g，余量为水。将合金工件依次进行除油、清洗、酸洗活化、清洗；将上述经前处理后合金工件置于所述的化学抛光液中浸渍；抛光完成后，将合金工件依次清洗、钝化、清洗、烘干即可。本发明采用过硫酸钠作为氧化剂，抛光过程中不产生“黄烟”，绿色环保。且该抛光液成分简单，容易管控。所得化学抛光表面光亮、平整，可达镜面抛光效果。本发明的抛光液可以广泛的应用于铜合金表面的抛光。
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高性能纳米粒子抛光液
成熟度：通过中试
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应用行业：制造业
技术简介
是否验收 √ □ 是 □否 成果获奖情况 上海市科技进步三等奖有否样品或样机√ □ 有 □无 科研项目资助情况 国家自然科学基金相关评价和证明□项目可行性报告 □查新报告 □鉴定证书 √ □检测报告 □高新技术或新产品认定证书 √ □用户意见 □其他：技术成熟程度□已实现规模产业化 □已在工业领域或具体企业实际应用 □已实现小批量生产 √ □已通过中试验证 □处在中试阶段 □小试阶段 □处在实验室研发阶段 □其他：知识产权情况专利申请号 ZL200510023377.X 、 ZL201110298605.X是否己经授权 √ □ 是 □ 否技术成果简介化学机械抛光技术（CMP） 是迄今唯一的可以达到全局平面化的超精加工技术， 抛光液是 CMP 技术的关键要素。 纳米粒子 CMP 抛光液由纳米粒子（如氧化硅、 氧化铈等）、 氧化剂、 其他功能性助剂及溶剂组成。 可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等表面的纳米级及亚纳米级抛光。 目前，在计算机硬盘基片的抛光中可以达到表面粗糙度(Ra)小于 0.5 Å， 居国际先进水平。技术创新点或优势由纳米磨粒、功能助剂组成的纳米抛光液， 可以实现表面的超精抛光， 特征是达到纳米级或亚纳米级的表面粗糙度和波纹度， 该指标是目前对表面质量的最高要求。技术经济指标外观： 白色或淡黄色分散液； 粒径： 10-150 纳米； 固含量： 20-40%； PH 值： 1-6； 8-11。该技术属于 IT 产品制造中的高、 新技术产品， 市场前景好。 部分产品可替代进口。工业领域实际应用情况概述可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 不锈钢、 铝合金、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等金属或非金属材料表面的超精密（纳米级及亚纳米级）抛光。服务方式 √ □技术转让 √ □ 技术开发 □ 技术服务 □ 技术咨询
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超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
成熟度：-
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应用行业：制造业
技术简介
超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光液的组成成分重量%是SiO2,GeO2,AlO3,ZrO,MgO的水溶胶18-50;无金属离子的羟胺类化合物和铵盐类化合物0.1-10；多羟多胺类化合物和铵盐类化合物0.005-25；非离子表面活性剂0.1-10；余量为去离子水。该抛光液损伤小,平整度高,易清洗;不腐蚀设备,不污染环境;选择性强,速率高;价格便宜,成本低。主要用于超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光，推广前景好。
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新型抛光液和BOS钝化液及工艺研究
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
该成果所研制的新工艺比厂方原工艺的抛光、钝化速度慢，原反应时间为５～１０秒，现增加到３分钟，这样有利于控制波纹管刚度，使超刚度率从５％下降到２％。用新工艺配方处理后的铜合金波纹管表面色泽金黄，均匀一致，钝化膜厚达１０微米。该工艺所用的化工原料立足国内市场，配制方便，使用周期长，操作无危害，成本降低。新的抛光、钝化液不含铬，废水处理方便。主要技术指标：抛光液系无色透明，溶液酸性，在室温下使用；ＢＯＳ钝化液呈微混，ＦＨ值６．５，在６０～７０℃时使用。
找到34项技术成果数据。
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一种抛光液及其制备方法和用途
成熟度：通过小试
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技术简介
本发明涉及一种化学机械抛光液及其制备方法和用途，所述抛光液包含磨粒、分散剂、氧化剂、缓蚀剂、pH调节剂、稳定剂及溶剂。本发明利用无机填料磷酸锆作为抛光磨粒。这种型抛光新材料与传统的片状氧化铝相比，分散性更好，稳定性高，沉降效果不明显。此外磷酸锆具有二维片层状结构，受到外力时会产生定向排列从而优化磨粒的取向，这样优化后的抛光磨粒在抛光过程中更加稳定，产生的划痕更少，整个抛光体系更加稳定，可达到更好的抛光效果。
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光电子单晶材料超光滑表面加工关键技术
成熟度：正在研发
技术类型：-
应用行业：采矿业
技术简介
技术投资分析：成果简介本项目采用化学机械超精密抛光方法，通过磨料微粒与工件加工面接触部分的化学反应以及抛光液的腐蚀作用在加工表面形成化学反应薄层，利用微粒的机械摩擦作用去除反应层，高效率获得钽酸锂单晶片超光滑抛光表面。本项目可根据被加工材料的特性，优选抛光液，获得提高抛光效率的化学反应层；并给出抛光盘转速、抛光压力、磨料粒度、抛光液PH值等主要抛光工艺参数的最优值，以实现高效率、高精度的晶片锯切和无损伤镜面抛光。技术的应用领域前景分析：本技术投资少，见效快，市场前景广，特别适合于中小企业生产。效益分析：本项目市场应用范围广，成本低，利润高，效益可观。厂房条件建议：无备注：无
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新型黄铜拉链牙的化学抛光技术
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本黄铜拉链牙的化学抛光技术具有抛光速度快（可达4 mg?cm-2?min-1）；抛光液较稳定；抛光效果好而且抛光后布带不退色（而且在150 0C以下温度烘干布带也不退色）；抛光液工艺环保，没有有毒气体或物质产生；工艺先进。目前已完成对H65和H80黄铜拉链抛光液配方和抛光工艺条件，抛光液在抛光过程的消耗规律及补加方案和有效成分的分析测试等，抛光后处理如钝化配方和工艺条件，相应的核心技术已申请国家发明专利，可随时进行合作试生产（中试实验）。抛光生产流程：碱性除油（加热70～80 0C，3～5分钟）→ 水洗 → 化学抛光（ 40 0C，1分钟，机械或空气搅拌，真空脱液并回收抛光液）→ 水洗 → 后处理（如上漆、钝化、氧化着色、化学镀等）。(a)钝化流程：钝化（40 0C，1分钟，需真空脱液并回收） → 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。(b)氧化着色、化学镀等流程： 氧化着色、化学镀等（需真空脱液并回收）→ 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。相应的主要设备及硬件要求：抛光池（加热装置），除油池（加热装置），水洗池，以上设备质地为PVC或其它硬质塑料，各若干个。机械搅拌机（或空气压缩搅拌）和烘干设备。要求水质：去离子水（离子交换树脂法得到）。
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一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明公开了一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺（专利号201110151813.7），抛光液以醇(甲醇、乙醇中的至少一种)和酸(硫酸、醋酸中的至少一种)作为其主体成分。本发明所提供的不锈钢表面抛光处理工艺包括以下步骤：除油污处理、超声振动水洗、超声振动酸洗、超声振动碱洗、电解抛光、超声振动水洗、钝化、清洗及烘干。与传统不锈钢电解抛光液相比，本抛光液既不含铬酸酐，减少了环境污染，废液易于处理，属于环保型抛光液；又不含价格昂贵的磷酸，降低了抛光成本，有利于不锈钢电解抛光工艺的推广。经试验证明，该抛光液及其工艺能有效除去不锈钢表面的氧化膜及划痕，并可使工件达到镜面光亮的效果，有效地提高抛光品质。
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一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液。本发明所述抛光液中包含研磨颗粒、络合剂、氧化剂，表面活性剂、抑菌剂和水，抑菌剂的含量为重量百分比0.001～1％；研磨颗粒含量为重量百分比3～15％；络合剂的含量为重量百分比1～5％；表面活性剂的含量为重量百分比0.01～1％；过氧化氢的含量为重量百分比0.5～3％；用水补足含量至重量百分比100％。本发明抛光液适用于下压力不大于5.516kPa时铜的精抛光，不包含腐蚀抑制剂。
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一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明属于金属表面处理技术领域，公开了一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺。所述抛光液包含60g/L～90g/L硝酸盐、60g/L～90g/L盐酸、120ml/L～180ml/L中强酸、20g/L～50g/L粘度调节剂、1g/L～10g/L缓蚀剂、2g/L～6g/L光亮剂和水。所述抛光工艺为：将金属工件进行脱脂活化前处理，然后置于抛光液中，在温度为60～100℃浸泡2.5～4min进行抛光，抛光完成后，将金属工件进行中和后处理，即可得到平整光滑的金属表面。本发明的化学抛光液安全环保，抛光效率高，成本低，适于工业化应用。
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一种化学抛光液及合金表面抛光处理方法
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种化学抛光液及合金表面处理方法，每升抛光液中各组分含量为：过硫酸盐30～100g，浓硫酸300～500ml，粘度调整剂10～40g，光亮剂2～14g，余量为水。将合金工件依次进行除油、清洗、酸洗活化、清洗；将上述经前处理后合金工件置于所述的化学抛光液中浸渍；抛光完成后，将合金工件依次清洗、钝化、清洗、烘干即可。本发明采用过硫酸钠作为氧化剂，抛光过程中不产生“黄烟”，绿色环保。且该抛光液成分简单，容易管控。所得化学抛光表面光亮、平整，可达镜面抛光效果。本发明的抛光液可以广泛的应用于铜合金表面的抛光。
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高性能纳米粒子抛光液
成熟度：通过中试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
是否验收 √ □ 是 □否 成果获奖情况 上海市科技进步三等奖有否样品或样机√ □ 有 □无 科研项目资助情况 国家自然科学基金相关评价和证明□项目可行性报告 □查新报告 □鉴定证书 √ □检测报告 □高新技术或新产品认定证书 √ □用户意见 □其他：技术成熟程度□已实现规模产业化 □已在工业领域或具体企业实际应用 □已实现小批量生产 √ □已通过中试验证 □处在中试阶段 □小试阶段 □处在实验室研发阶段 □其他：知识产权情况专利申请号 ZL200510023377.X 、 ZL201110298605.X是否己经授权 √ □ 是 □ 否技术成果简介化学机械抛光技术（CMP） 是迄今唯一的可以达到全局平面化的超精加工技术， 抛光液是 CMP 技术的关键要素。 纳米粒子 CMP 抛光液由纳米粒子（如氧化硅、 氧化铈等）、 氧化剂、 其他功能性助剂及溶剂组成。 可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等表面的纳米级及亚纳米级抛光。 目前，在计算机硬盘基片的抛光中可以达到表面粗糙度(Ra)小于 0.5 Å， 居国际先进水平。技术创新点或优势由纳米磨粒、功能助剂组成的纳米抛光液， 可以实现表面的超精抛光， 特征是达到纳米级或亚纳米级的表面粗糙度和波纹度， 该指标是目前对表面质量的最高要求。技术经济指标外观： 白色或淡黄色分散液； 粒径： 10-150 纳米； 固含量： 20-40%； PH 值： 1-6； 8-11。该技术属于 IT 产品制造中的高、 新技术产品， 市场前景好。 部分产品可替代进口。工业领域实际应用情况概述可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 不锈钢、 铝合金、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等金属或非金属材料表面的超精密（纳米级及亚纳米级）抛光。服务方式 √ □技术转让 √ □ 技术开发 □ 技术服务 □ 技术咨询
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超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光液的组成成分重量%是SiO2,GeO2,AlO3,ZrO,MgO的水溶胶18-50;无金属离子的羟胺类化合物和铵盐类化合物0.1-10；多羟多胺类化合物和铵盐类化合物0.005-25；非离子表面活性剂0.1-10；余量为去离子水。该抛光液损伤小,平整度高,易清洗;不腐蚀设备,不污染环境;选择性强,速率高;价格便宜,成本低。主要用于超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光，推广前景好。
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新型抛光液和BOS钝化液及工艺研究
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
该成果所研制的新工艺比厂方原工艺的抛光、钝化速度慢，原反应时间为５～１０秒，现增加到３分钟，这样有利于控制波纹管刚度，使超刚度率从５％下降到２％。用新工艺配方处理后的铜合金波纹管表面色泽金黄，均匀一致，钝化膜厚达１０微米。该工艺所用的化工原料立足国内市场，配制方便，使用周期长，操作无危害，成本降低。新的抛光、钝化液不含铬，废水处理方便。主要技术指标：抛光液系无色透明，溶液酸性，在室温下使用；ＢＯＳ钝化液呈微混，ＦＨ值６．５，在６０～７０℃时使用。
找到34项技术成果数据。
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一种抛光液及其制备方法和用途
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本发明涉及一种化学机械抛光液及其制备方法和用途，所述抛光液包含磨粒、分散剂、氧化剂、缓蚀剂、pH调节剂、稳定剂及溶剂。本发明利用无机填料磷酸锆作为抛光磨粒。这种型抛光新材料与传统的片状氧化铝相比，分散性更好，稳定性高，沉降效果不明显。此外磷酸锆具有二维片层状结构，受到外力时会产生定向排列从而优化磨粒的取向，这样优化后的抛光磨粒在抛光过程中更加稳定，产生的划痕更少，整个抛光体系更加稳定，可达到更好的抛光效果。
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光电子单晶材料超光滑表面加工关键技术
成熟度：正在研发
技术类型：-
应用行业：采矿业
技术简介
技术投资分析：成果简介本项目采用化学机械超精密抛光方法，通过磨料微粒与工件加工面接触部分的化学反应以及抛光液的腐蚀作用在加工表面形成化学反应薄层，利用微粒的机械摩擦作用去除反应层，高效率获得钽酸锂单晶片超光滑抛光表面。本项目可根据被加工材料的特性，优选抛光液，获得提高抛光效率的化学反应层；并给出抛光盘转速、抛光压力、磨料粒度、抛光液PH值等主要抛光工艺参数的最优值，以实现高效率、高精度的晶片锯切和无损伤镜面抛光。技术的应用领域前景分析：本技术投资少，见效快，市场前景广，特别适合于中小企业生产。效益分析：本项目市场应用范围广，成本低，利润高，效益可观。厂房条件建议：无备注：无
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新型黄铜拉链牙的化学抛光技术
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本黄铜拉链牙的化学抛光技术具有抛光速度快（可达4 mg?cm-2?min-1）；抛光液较稳定；抛光效果好而且抛光后布带不退色（而且在150 0C以下温度烘干布带也不退色）；抛光液工艺环保，没有有毒气体或物质产生；工艺先进。目前已完成对H65和H80黄铜拉链抛光液配方和抛光工艺条件，抛光液在抛光过程的消耗规律及补加方案和有效成分的分析测试等，抛光后处理如钝化配方和工艺条件，相应的核心技术已申请国家发明专利，可随时进行合作试生产（中试实验）。抛光生产流程：碱性除油（加热70～80 0C，3～5分钟）→ 水洗 → 化学抛光（ 40 0C，1分钟，机械或空气搅拌，真空脱液并回收抛光液）→ 水洗 → 后处理（如上漆、钝化、氧化着色、化学镀等）。(a)钝化流程：钝化（40 0C，1分钟，需真空脱液并回收） → 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。(b)氧化着色、化学镀等流程： 氧化着色、化学镀等（需真空脱液并回收）→ 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。相应的主要设备及硬件要求：抛光池（加热装置），除油池（加热装置），水洗池，以上设备质地为PVC或其它硬质塑料，各若干个。机械搅拌机（或空气压缩搅拌）和烘干设备。要求水质：去离子水（离子交换树脂法得到）。
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一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明公开了一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺（专利号201110151813.7），抛光液以醇(甲醇、乙醇中的至少一种)和酸(硫酸、醋酸中的至少一种)作为其主体成分。本发明所提供的不锈钢表面抛光处理工艺包括以下步骤：除油污处理、超声振动水洗、超声振动酸洗、超声振动碱洗、电解抛光、超声振动水洗、钝化、清洗及烘干。与传统不锈钢电解抛光液相比，本抛光液既不含铬酸酐，减少了环境污染，废液易于处理，属于环保型抛光液；又不含价格昂贵的磷酸，降低了抛光成本，有利于不锈钢电解抛光工艺的推广。经试验证明，该抛光液及其工艺能有效除去不锈钢表面的氧化膜及划痕，并可使工件达到镜面光亮的效果，有效地提高抛光品质。
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一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液。本发明所述抛光液中包含研磨颗粒、络合剂、氧化剂，表面活性剂、抑菌剂和水，抑菌剂的含量为重量百分比0.001～1％；研磨颗粒含量为重量百分比3～15％；络合剂的含量为重量百分比1～5％；表面活性剂的含量为重量百分比0.01～1％；过氧化氢的含量为重量百分比0.5～3％；用水补足含量至重量百分比100％。本发明抛光液适用于下压力不大于5.516kPa时铜的精抛光，不包含腐蚀抑制剂。
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一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明属于金属表面处理技术领域，公开了一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺。所述抛光液包含60g/L～90g/L硝酸盐、60g/L～90g/L盐酸、120ml/L～180ml/L中强酸、20g/L～50g/L粘度调节剂、1g/L～10g/L缓蚀剂、2g/L～6g/L光亮剂和水。所述抛光工艺为：将金属工件进行脱脂活化前处理，然后置于抛光液中，在温度为60～100℃浸泡2.5～4min进行抛光，抛光完成后，将金属工件进行中和后处理，即可得到平整光滑的金属表面。本发明的化学抛光液安全环保，抛光效率高，成本低，适于工业化应用。
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一种化学抛光液及合金表面抛光处理方法
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种化学抛光液及合金表面处理方法，每升抛光液中各组分含量为：过硫酸盐30～100g，浓硫酸300～500ml，粘度调整剂10～40g，光亮剂2～14g，余量为水。将合金工件依次进行除油、清洗、酸洗活化、清洗；将上述经前处理后合金工件置于所述的化学抛光液中浸渍；抛光完成后，将合金工件依次清洗、钝化、清洗、烘干即可。本发明采用过硫酸钠作为氧化剂，抛光过程中不产生“黄烟”，绿色环保。且该抛光液成分简单，容易管控。所得化学抛光表面光亮、平整，可达镜面抛光效果。本发明的抛光液可以广泛的应用于铜合金表面的抛光。
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高性能纳米粒子抛光液
成熟度：通过中试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
是否验收 √ □ 是 □否 成果获奖情况 上海市科技进步三等奖有否样品或样机√ □ 有 □无 科研项目资助情况 国家自然科学基金相关评价和证明□项目可行性报告 □查新报告 □鉴定证书 √ □检测报告 □高新技术或新产品认定证书 √ □用户意见 □其他：技术成熟程度□已实现规模产业化 □已在工业领域或具体企业实际应用 □已实现小批量生产 √ □已通过中试验证 □处在中试阶段 □小试阶段 □处在实验室研发阶段 □其他：知识产权情况专利申请号 ZL200510023377.X 、 ZL201110298605.X是否己经授权 √ □ 是 □ 否技术成果简介化学机械抛光技术（CMP） 是迄今唯一的可以达到全局平面化的超精加工技术， 抛光液是 CMP 技术的关键要素。 纳米粒子 CMP 抛光液由纳米粒子（如氧化硅、 氧化铈等）、 氧化剂、 其他功能性助剂及溶剂组成。 可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等表面的纳米级及亚纳米级抛光。 目前，在计算机硬盘基片的抛光中可以达到表面粗糙度(Ra)小于 0.5 Å， 居国际先进水平。技术创新点或优势由纳米磨粒、功能助剂组成的纳米抛光液， 可以实现表面的超精抛光， 特征是达到纳米级或亚纳米级的表面粗糙度和波纹度， 该指标是目前对表面质量的最高要求。技术经济指标外观： 白色或淡黄色分散液； 粒径： 10-150 纳米； 固含量： 20-40%； PH 值： 1-6； 8-11。该技术属于 IT 产品制造中的高、 新技术产品， 市场前景好。 部分产品可替代进口。工业领域实际应用情况概述可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 不锈钢、 铝合金、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等金属或非金属材料表面的超精密（纳米级及亚纳米级）抛光。服务方式 √ □技术转让 √ □ 技术开发 □ 技术服务 □ 技术咨询
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超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光液的组成成分重量%是SiO2,GeO2,AlO3,ZrO,MgO的水溶胶18-50;无金属离子的羟胺类化合物和铵盐类化合物0.1-10；多羟多胺类化合物和铵盐类化合物0.005-25；非离子表面活性剂0.1-10；余量为去离子水。该抛光液损伤小,平整度高,易清洗;不腐蚀设备,不污染环境;选择性强,速率高;价格便宜,成本低。主要用于超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光，推广前景好。
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新型抛光液和BOS钝化液及工艺研究
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
该成果所研制的新工艺比厂方原工艺的抛光、钝化速度慢，原反应时间为５～１０秒，现增加到３分钟，这样有利于控制波纹管刚度，使超刚度率从５％下降到２％。用新工艺配方处理后的铜合金波纹管表面色泽金黄，均匀一致，钝化膜厚达１０微米。该工艺所用的化工原料立足国内市场，配制方便，使用周期长，操作无危害，成本降低。新的抛光、钝化液不含铬，废水处理方便。主要技术指标：抛光液系无色透明，溶液酸性，在室温下使用；ＢＯＳ钝化液呈微混，ＦＨ值６．５，在６０～７０℃时使用。
找到34项技术成果数据。
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一种抛光液及其制备方法和用途
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本发明涉及一种化学机械抛光液及其制备方法和用途，所述抛光液包含磨粒、分散剂、氧化剂、缓蚀剂、pH调节剂、稳定剂及溶剂。本发明利用无机填料磷酸锆作为抛光磨粒。这种型抛光新材料与传统的片状氧化铝相比，分散性更好，稳定性高，沉降效果不明显。此外磷酸锆具有二维片层状结构，受到外力时会产生定向排列从而优化磨粒的取向，这样优化后的抛光磨粒在抛光过程中更加稳定，产生的划痕更少，整个抛光体系更加稳定，可达到更好的抛光效果。
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光电子单晶材料超光滑表面加工关键技术
成熟度：正在研发
技术类型：-
应用行业：采矿业
技术简介
技术投资分析：成果简介本项目采用化学机械超精密抛光方法，通过磨料微粒与工件加工面接触部分的化学反应以及抛光液的腐蚀作用在加工表面形成化学反应薄层，利用微粒的机械摩擦作用去除反应层，高效率获得钽酸锂单晶片超光滑抛光表面。本项目可根据被加工材料的特性，优选抛光液，获得提高抛光效率的化学反应层；并给出抛光盘转速、抛光压力、磨料粒度、抛光液PH值等主要抛光工艺参数的最优值，以实现高效率、高精度的晶片锯切和无损伤镜面抛光。技术的应用领域前景分析：本技术投资少，见效快，市场前景广，特别适合于中小企业生产。效益分析：本项目市场应用范围广，成本低，利润高，效益可观。厂房条件建议：无备注：无
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新型黄铜拉链牙的化学抛光技术
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本黄铜拉链牙的化学抛光技术具有抛光速度快（可达4 mg?cm-2?min-1）；抛光液较稳定；抛光效果好而且抛光后布带不退色（而且在150 0C以下温度烘干布带也不退色）；抛光液工艺环保，没有有毒气体或物质产生；工艺先进。目前已完成对H65和H80黄铜拉链抛光液配方和抛光工艺条件，抛光液在抛光过程的消耗规律及补加方案和有效成分的分析测试等，抛光后处理如钝化配方和工艺条件，相应的核心技术已申请国家发明专利，可随时进行合作试生产（中试实验）。抛光生产流程：碱性除油（加热70～80 0C，3～5分钟）→ 水洗 → 化学抛光（ 40 0C，1分钟，机械或空气搅拌，真空脱液并回收抛光液）→ 水洗 → 后处理（如上漆、钝化、氧化着色、化学镀等）。(a)钝化流程：钝化（40 0C，1分钟，需真空脱液并回收） → 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。(b)氧化着色、化学镀等流程： 氧化着色、化学镀等（需真空脱液并回收）→ 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。相应的主要设备及硬件要求：抛光池（加热装置），除油池（加热装置），水洗池，以上设备质地为PVC或其它硬质塑料，各若干个。机械搅拌机（或空气压缩搅拌）和烘干设备。要求水质：去离子水（离子交换树脂法得到）。
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一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明公开了一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺（专利号201110151813.7），抛光液以醇(甲醇、乙醇中的至少一种)和酸(硫酸、醋酸中的至少一种)作为其主体成分。本发明所提供的不锈钢表面抛光处理工艺包括以下步骤：除油污处理、超声振动水洗、超声振动酸洗、超声振动碱洗、电解抛光、超声振动水洗、钝化、清洗及烘干。与传统不锈钢电解抛光液相比，本抛光液既不含铬酸酐，减少了环境污染，废液易于处理，属于环保型抛光液；又不含价格昂贵的磷酸，降低了抛光成本，有利于不锈钢电解抛光工艺的推广。经试验证明，该抛光液及其工艺能有效除去不锈钢表面的氧化膜及划痕，并可使工件达到镜面光亮的效果，有效地提高抛光品质。
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一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液。本发明所述抛光液中包含研磨颗粒、络合剂、氧化剂，表面活性剂、抑菌剂和水，抑菌剂的含量为重量百分比0.001～1％；研磨颗粒含量为重量百分比3～15％；络合剂的含量为重量百分比1～5％；表面活性剂的含量为重量百分比0.01～1％；过氧化氢的含量为重量百分比0.5～3％；用水补足含量至重量百分比100％。本发明抛光液适用于下压力不大于5.516kPa时铜的精抛光，不包含腐蚀抑制剂。
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一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明属于金属表面处理技术领域，公开了一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺。所述抛光液包含60g/L～90g/L硝酸盐、60g/L～90g/L盐酸、120ml/L～180ml/L中强酸、20g/L～50g/L粘度调节剂、1g/L～10g/L缓蚀剂、2g/L～6g/L光亮剂和水。所述抛光工艺为：将金属工件进行脱脂活化前处理，然后置于抛光液中，在温度为60～100℃浸泡2.5～4min进行抛光，抛光完成后，将金属工件进行中和后处理，即可得到平整光滑的金属表面。本发明的化学抛光液安全环保，抛光效率高，成本低，适于工业化应用。
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一种化学抛光液及合金表面抛光处理方法
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种化学抛光液及合金表面处理方法，每升抛光液中各组分含量为：过硫酸盐30～100g，浓硫酸300～500ml，粘度调整剂10～40g，光亮剂2～14g，余量为水。将合金工件依次进行除油、清洗、酸洗活化、清洗；将上述经前处理后合金工件置于所述的化学抛光液中浸渍；抛光完成后，将合金工件依次清洗、钝化、清洗、烘干即可。本发明采用过硫酸钠作为氧化剂，抛光过程中不产生“黄烟”，绿色环保。且该抛光液成分简单，容易管控。所得化学抛光表面光亮、平整，可达镜面抛光效果。本发明的抛光液可以广泛的应用于铜合金表面的抛光。
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高性能纳米粒子抛光液
成熟度：通过中试
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应用行业：制造业
技术简介
是否验收 √ □ 是 □否 成果获奖情况 上海市科技进步三等奖有否样品或样机√ □ 有 □无 科研项目资助情况 国家自然科学基金相关评价和证明□项目可行性报告 □查新报告 □鉴定证书 √ □检测报告 □高新技术或新产品认定证书 √ □用户意见 □其他：技术成熟程度□已实现规模产业化 □已在工业领域或具体企业实际应用 □已实现小批量生产 √ □已通过中试验证 □处在中试阶段 □小试阶段 □处在实验室研发阶段 □其他：知识产权情况专利申请号 ZL200510023377.X 、 ZL201110298605.X是否己经授权 √ □ 是 □ 否技术成果简介化学机械抛光技术（CMP） 是迄今唯一的可以达到全局平面化的超精加工技术， 抛光液是 CMP 技术的关键要素。 纳米粒子 CMP 抛光液由纳米粒子（如氧化硅、 氧化铈等）、 氧化剂、 其他功能性助剂及溶剂组成。 可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等表面的纳米级及亚纳米级抛光。 目前，在计算机硬盘基片的抛光中可以达到表面粗糙度(Ra)小于 0.5 Å， 居国际先进水平。技术创新点或优势由纳米磨粒、功能助剂组成的纳米抛光液， 可以实现表面的超精抛光， 特征是达到纳米级或亚纳米级的表面粗糙度和波纹度， 该指标是目前对表面质量的最高要求。技术经济指标外观： 白色或淡黄色分散液； 粒径： 10-150 纳米； 固含量： 20-40%； PH 值： 1-6； 8-11。该技术属于 IT 产品制造中的高、 新技术产品， 市场前景好。 部分产品可替代进口。工业领域实际应用情况概述可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 不锈钢、 铝合金、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等金属或非金属材料表面的超精密（纳米级及亚纳米级）抛光。服务方式 √ □技术转让 √ □ 技术开发 □ 技术服务 □ 技术咨询
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超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
成熟度：-
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技术简介
超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光液的组成成分重量%是SiO2,GeO2,AlO3,ZrO,MgO的水溶胶18-50;无金属离子的羟胺类化合物和铵盐类化合物0.1-10；多羟多胺类化合物和铵盐类化合物0.005-25；非离子表面活性剂0.1-10；余量为去离子水。该抛光液损伤小,平整度高,易清洗;不腐蚀设备,不污染环境;选择性强,速率高;价格便宜,成本低。主要用于超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光，推广前景好。
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新型抛光液和BOS钝化液及工艺研究
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
该成果所研制的新工艺比厂方原工艺的抛光、钝化速度慢，原反应时间为５～１０秒，现增加到３分钟，这样有利于控制波纹管刚度，使超刚度率从５％下降到２％。用新工艺配方处理后的铜合金波纹管表面色泽金黄，均匀一致，钝化膜厚达１０微米。该工艺所用的化工原料立足国内市场，配制方便，使用周期长，操作无危害，成本降低。新的抛光、钝化液不含铬，废水处理方便。主要技术指标：抛光液系无色透明，溶液酸性，在室温下使用；ＢＯＳ钝化液呈微混，ＦＨ值６．５，在６０～７０℃时使用。
找到34项技术成果数据。
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一种抛光液及其制备方法和用途
成熟度：通过小试
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技术简介
本发明涉及一种化学机械抛光液及其制备方法和用途，所述抛光液包含磨粒、分散剂、氧化剂、缓蚀剂、pH调节剂、稳定剂及溶剂。本发明利用无机填料磷酸锆作为抛光磨粒。这种型抛光新材料与传统的片状氧化铝相比，分散性更好，稳定性高，沉降效果不明显。此外磷酸锆具有二维片层状结构，受到外力时会产生定向排列从而优化磨粒的取向，这样优化后的抛光磨粒在抛光过程中更加稳定，产生的划痕更少，整个抛光体系更加稳定，可达到更好的抛光效果。
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光电子单晶材料超光滑表面加工关键技术
成熟度：正在研发
技术类型：-
应用行业：采矿业
技术简介
技术投资分析：成果简介本项目采用化学机械超精密抛光方法，通过磨料微粒与工件加工面接触部分的化学反应以及抛光液的腐蚀作用在加工表面形成化学反应薄层，利用微粒的机械摩擦作用去除反应层，高效率获得钽酸锂单晶片超光滑抛光表面。本项目可根据被加工材料的特性，优选抛光液，获得提高抛光效率的化学反应层；并给出抛光盘转速、抛光压力、磨料粒度、抛光液PH值等主要抛光工艺参数的最优值，以实现高效率、高精度的晶片锯切和无损伤镜面抛光。技术的应用领域前景分析：本技术投资少，见效快，市场前景广，特别适合于中小企业生产。效益分析：本项目市场应用范围广，成本低，利润高，效益可观。厂房条件建议：无备注：无
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新型黄铜拉链牙的化学抛光技术
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本黄铜拉链牙的化学抛光技术具有抛光速度快（可达4 mg?cm-2?min-1）；抛光液较稳定；抛光效果好而且抛光后布带不退色（而且在150 0C以下温度烘干布带也不退色）；抛光液工艺环保，没有有毒气体或物质产生；工艺先进。目前已完成对H65和H80黄铜拉链抛光液配方和抛光工艺条件，抛光液在抛光过程的消耗规律及补加方案和有效成分的分析测试等，抛光后处理如钝化配方和工艺条件，相应的核心技术已申请国家发明专利，可随时进行合作试生产（中试实验）。抛光生产流程：碱性除油（加热70～80 0C，3～5分钟）→ 水洗 → 化学抛光（ 40 0C，1分钟，机械或空气搅拌，真空脱液并回收抛光液）→ 水洗 → 后处理（如上漆、钝化、氧化着色、化学镀等）。(a)钝化流程：钝化（40 0C，1分钟，需真空脱液并回收） → 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。(b)氧化着色、化学镀等流程： 氧化着色、化学镀等（需真空脱液并回收）→ 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。相应的主要设备及硬件要求：抛光池（加热装置），除油池（加热装置），水洗池，以上设备质地为PVC或其它硬质塑料，各若干个。机械搅拌机（或空气压缩搅拌）和烘干设备。要求水质：去离子水（离子交换树脂法得到）。
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一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明公开了一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺（专利号201110151813.7），抛光液以醇(甲醇、乙醇中的至少一种)和酸(硫酸、醋酸中的至少一种)作为其主体成分。本发明所提供的不锈钢表面抛光处理工艺包括以下步骤：除油污处理、超声振动水洗、超声振动酸洗、超声振动碱洗、电解抛光、超声振动水洗、钝化、清洗及烘干。与传统不锈钢电解抛光液相比，本抛光液既不含铬酸酐，减少了环境污染，废液易于处理，属于环保型抛光液；又不含价格昂贵的磷酸，降低了抛光成本，有利于不锈钢电解抛光工艺的推广。经试验证明，该抛光液及其工艺能有效除去不锈钢表面的氧化膜及划痕，并可使工件达到镜面光亮的效果，有效地提高抛光品质。
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一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液。本发明所述抛光液中包含研磨颗粒、络合剂、氧化剂，表面活性剂、抑菌剂和水，抑菌剂的含量为重量百分比0.001～1％；研磨颗粒含量为重量百分比3～15％；络合剂的含量为重量百分比1～5％；表面活性剂的含量为重量百分比0.01～1％；过氧化氢的含量为重量百分比0.5～3％；用水补足含量至重量百分比100％。本发明抛光液适用于下压力不大于5.516kPa时铜的精抛光，不包含腐蚀抑制剂。
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一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明属于金属表面处理技术领域，公开了一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺。所述抛光液包含60g/L～90g/L硝酸盐、60g/L～90g/L盐酸、120ml/L～180ml/L中强酸、20g/L～50g/L粘度调节剂、1g/L～10g/L缓蚀剂、2g/L～6g/L光亮剂和水。所述抛光工艺为：将金属工件进行脱脂活化前处理，然后置于抛光液中，在温度为60～100℃浸泡2.5～4min进行抛光，抛光完成后，将金属工件进行中和后处理，即可得到平整光滑的金属表面。本发明的化学抛光液安全环保，抛光效率高，成本低，适于工业化应用。
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一种化学抛光液及合金表面抛光处理方法
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种化学抛光液及合金表面处理方法，每升抛光液中各组分含量为：过硫酸盐30～100g，浓硫酸300～500ml，粘度调整剂10～40g，光亮剂2～14g，余量为水。将合金工件依次进行除油、清洗、酸洗活化、清洗；将上述经前处理后合金工件置于所述的化学抛光液中浸渍；抛光完成后，将合金工件依次清洗、钝化、清洗、烘干即可。本发明采用过硫酸钠作为氧化剂，抛光过程中不产生“黄烟”，绿色环保。且该抛光液成分简单，容易管控。所得化学抛光表面光亮、平整，可达镜面抛光效果。本发明的抛光液可以广泛的应用于铜合金表面的抛光。
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高性能纳米粒子抛光液
成熟度：通过中试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
是否验收 √ □ 是 □否 成果获奖情况 上海市科技进步三等奖有否样品或样机√ □ 有 □无 科研项目资助情况 国家自然科学基金相关评价和证明□项目可行性报告 □查新报告 □鉴定证书 √ □检测报告 □高新技术或新产品认定证书 √ □用户意见 □其他：技术成熟程度□已实现规模产业化 □已在工业领域或具体企业实际应用 □已实现小批量生产 √ □已通过中试验证 □处在中试阶段 □小试阶段 □处在实验室研发阶段 □其他：知识产权情况专利申请号 ZL200510023377.X 、 ZL201110298605.X是否己经授权 √ □ 是 □ 否技术成果简介化学机械抛光技术（CMP） 是迄今唯一的可以达到全局平面化的超精加工技术， 抛光液是 CMP 技术的关键要素。 纳米粒子 CMP 抛光液由纳米粒子（如氧化硅、 氧化铈等）、 氧化剂、 其他功能性助剂及溶剂组成。 可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等表面的纳米级及亚纳米级抛光。 目前，在计算机硬盘基片的抛光中可以达到表面粗糙度(Ra)小于 0.5 Å， 居国际先进水平。技术创新点或优势由纳米磨粒、功能助剂组成的纳米抛光液， 可以实现表面的超精抛光， 特征是达到纳米级或亚纳米级的表面粗糙度和波纹度， 该指标是目前对表面质量的最高要求。技术经济指标外观： 白色或淡黄色分散液； 粒径： 10-150 纳米； 固含量： 20-40%； PH 值： 1-6； 8-11。该技术属于 IT 产品制造中的高、 新技术产品， 市场前景好。 部分产品可替代进口。工业领域实际应用情况概述可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 不锈钢、 铝合金、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等金属或非金属材料表面的超精密（纳米级及亚纳米级）抛光。服务方式 √ □技术转让 √ □ 技术开发 □ 技术服务 □ 技术咨询
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超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光液的组成成分重量%是SiO2,GeO2,AlO3,ZrO,MgO的水溶胶18-50;无金属离子的羟胺类化合物和铵盐类化合物0.1-10；多羟多胺类化合物和铵盐类化合物0.005-25；非离子表面活性剂0.1-10；余量为去离子水。该抛光液损伤小,平整度高,易清洗;不腐蚀设备,不污染环境;选择性强,速率高;价格便宜,成本低。主要用于超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光，推广前景好。
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新型抛光液和BOS钝化液及工艺研究
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
该成果所研制的新工艺比厂方原工艺的抛光、钝化速度慢，原反应时间为５～１０秒，现增加到３分钟，这样有利于控制波纹管刚度，使超刚度率从５％下降到２％。用新工艺配方处理后的铜合金波纹管表面色泽金黄，均匀一致，钝化膜厚达１０微米。该工艺所用的化工原料立足国内市场，配制方便，使用周期长，操作无危害，成本降低。新的抛光、钝化液不含铬，废水处理方便。主要技术指标：抛光液系无色透明，溶液酸性，在室温下使用；ＢＯＳ钝化液呈微混，ＦＨ值６．５，在６０～７０℃时使用。
找到34项技术成果数据。
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一种抛光液及其制备方法和用途
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本发明涉及一种化学机械抛光液及其制备方法和用途，所述抛光液包含磨粒、分散剂、氧化剂、缓蚀剂、pH调节剂、稳定剂及溶剂。本发明利用无机填料磷酸锆作为抛光磨粒。这种型抛光新材料与传统的片状氧化铝相比，分散性更好，稳定性高，沉降效果不明显。此外磷酸锆具有二维片层状结构，受到外力时会产生定向排列从而优化磨粒的取向，这样优化后的抛光磨粒在抛光过程中更加稳定，产生的划痕更少，整个抛光体系更加稳定，可达到更好的抛光效果。
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光电子单晶材料超光滑表面加工关键技术
成熟度：正在研发
技术类型：-
应用行业：采矿业
技术简介
技术投资分析：成果简介本项目采用化学机械超精密抛光方法，通过磨料微粒与工件加工面接触部分的化学反应以及抛光液的腐蚀作用在加工表面形成化学反应薄层，利用微粒的机械摩擦作用去除反应层，高效率获得钽酸锂单晶片超光滑抛光表面。本项目可根据被加工材料的特性，优选抛光液，获得提高抛光效率的化学反应层；并给出抛光盘转速、抛光压力、磨料粒度、抛光液PH值等主要抛光工艺参数的最优值，以实现高效率、高精度的晶片锯切和无损伤镜面抛光。技术的应用领域前景分析：本技术投资少，见效快，市场前景广，特别适合于中小企业生产。效益分析：本项目市场应用范围广，成本低，利润高，效益可观。厂房条件建议：无备注：无
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新型黄铜拉链牙的化学抛光技术
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本黄铜拉链牙的化学抛光技术具有抛光速度快（可达4 mg?cm-2?min-1）；抛光液较稳定；抛光效果好而且抛光后布带不退色（而且在150 0C以下温度烘干布带也不退色）；抛光液工艺环保，没有有毒气体或物质产生；工艺先进。目前已完成对H65和H80黄铜拉链抛光液配方和抛光工艺条件，抛光液在抛光过程的消耗规律及补加方案和有效成分的分析测试等，抛光后处理如钝化配方和工艺条件，相应的核心技术已申请国家发明专利，可随时进行合作试生产（中试实验）。抛光生产流程：碱性除油（加热70～80 0C，3～5分钟）→ 水洗 → 化学抛光（ 40 0C，1分钟，机械或空气搅拌，真空脱液并回收抛光液）→ 水洗 → 后处理（如上漆、钝化、氧化着色、化学镀等）。(a)钝化流程：钝化（40 0C，1分钟，需真空脱液并回收） → 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。(b)氧化着色、化学镀等流程： 氧化着色、化学镀等（需真空脱液并回收）→ 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。相应的主要设备及硬件要求：抛光池（加热装置），除油池（加热装置），水洗池，以上设备质地为PVC或其它硬质塑料，各若干个。机械搅拌机（或空气压缩搅拌）和烘干设备。要求水质：去离子水（离子交换树脂法得到）。
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一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明公开了一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺（专利号201110151813.7），抛光液以醇(甲醇、乙醇中的至少一种)和酸(硫酸、醋酸中的至少一种)作为其主体成分。本发明所提供的不锈钢表面抛光处理工艺包括以下步骤：除油污处理、超声振动水洗、超声振动酸洗、超声振动碱洗、电解抛光、超声振动水洗、钝化、清洗及烘干。与传统不锈钢电解抛光液相比，本抛光液既不含铬酸酐，减少了环境污染，废液易于处理，属于环保型抛光液；又不含价格昂贵的磷酸，降低了抛光成本，有利于不锈钢电解抛光工艺的推广。经试验证明，该抛光液及其工艺能有效除去不锈钢表面的氧化膜及划痕，并可使工件达到镜面光亮的效果，有效地提高抛光品质。
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一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液。本发明所述抛光液中包含研磨颗粒、络合剂、氧化剂，表面活性剂、抑菌剂和水，抑菌剂的含量为重量百分比0.001～1％；研磨颗粒含量为重量百分比3～15％；络合剂的含量为重量百分比1～5％；表面活性剂的含量为重量百分比0.01～1％；过氧化氢的含量为重量百分比0.5～3％；用水补足含量至重量百分比100％。本发明抛光液适用于下压力不大于5.516kPa时铜的精抛光，不包含腐蚀抑制剂。
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一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明属于金属表面处理技术领域，公开了一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺。所述抛光液包含60g/L～90g/L硝酸盐、60g/L～90g/L盐酸、120ml/L～180ml/L中强酸、20g/L～50g/L粘度调节剂、1g/L～10g/L缓蚀剂、2g/L～6g/L光亮剂和水。所述抛光工艺为：将金属工件进行脱脂活化前处理，然后置于抛光液中，在温度为60～100℃浸泡2.5～4min进行抛光，抛光完成后，将金属工件进行中和后处理，即可得到平整光滑的金属表面。本发明的化学抛光液安全环保，抛光效率高，成本低，适于工业化应用。
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一种化学抛光液及合金表面抛光处理方法
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种化学抛光液及合金表面处理方法，每升抛光液中各组分含量为：过硫酸盐30～100g，浓硫酸300～500ml，粘度调整剂10～40g，光亮剂2～14g，余量为水。将合金工件依次进行除油、清洗、酸洗活化、清洗；将上述经前处理后合金工件置于所述的化学抛光液中浸渍；抛光完成后，将合金工件依次清洗、钝化、清洗、烘干即可。本发明采用过硫酸钠作为氧化剂，抛光过程中不产生“黄烟”，绿色环保。且该抛光液成分简单，容易管控。所得化学抛光表面光亮、平整，可达镜面抛光效果。本发明的抛光液可以广泛的应用于铜合金表面的抛光。
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高性能纳米粒子抛光液
成熟度：通过中试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
是否验收 √ □ 是 □否 成果获奖情况 上海市科技进步三等奖有否样品或样机√ □ 有 □无 科研项目资助情况 国家自然科学基金相关评价和证明□项目可行性报告 □查新报告 □鉴定证书 √ □检测报告 □高新技术或新产品认定证书 √ □用户意见 □其他：技术成熟程度□已实现规模产业化 □已在工业领域或具体企业实际应用 □已实现小批量生产 √ □已通过中试验证 □处在中试阶段 □小试阶段 □处在实验室研发阶段 □其他：知识产权情况专利申请号 ZL200510023377.X 、 ZL201110298605.X是否己经授权 √ □ 是 □ 否技术成果简介化学机械抛光技术（CMP） 是迄今唯一的可以达到全局平面化的超精加工技术， 抛光液是 CMP 技术的关键要素。 纳米粒子 CMP 抛光液由纳米粒子（如氧化硅、 氧化铈等）、 氧化剂、 其他功能性助剂及溶剂组成。 可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等表面的纳米级及亚纳米级抛光。 目前，在计算机硬盘基片的抛光中可以达到表面粗糙度(Ra)小于 0.5 Å， 居国际先进水平。技术创新点或优势由纳米磨粒、功能助剂组成的纳米抛光液， 可以实现表面的超精抛光， 特征是达到纳米级或亚纳米级的表面粗糙度和波纹度， 该指标是目前对表面质量的最高要求。技术经济指标外观： 白色或淡黄色分散液； 粒径： 10-150 纳米； 固含量： 20-40%； PH 值： 1-6； 8-11。该技术属于 IT 产品制造中的高、 新技术产品， 市场前景好。 部分产品可替代进口。工业领域实际应用情况概述可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 不锈钢、 铝合金、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等金属或非金属材料表面的超精密（纳米级及亚纳米级）抛光。服务方式 √ □技术转让 √ □ 技术开发 □ 技术服务 □ 技术咨询
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超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光液的组成成分重量%是SiO2,GeO2,AlO3,ZrO,MgO的水溶胶18-50;无金属离子的羟胺类化合物和铵盐类化合物0.1-10；多羟多胺类化合物和铵盐类化合物0.005-25；非离子表面活性剂0.1-10；余量为去离子水。该抛光液损伤小,平整度高,易清洗;不腐蚀设备,不污染环境;选择性强,速率高;价格便宜,成本低。主要用于超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光，推广前景好。
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新型抛光液和BOS钝化液及工艺研究
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
该成果所研制的新工艺比厂方原工艺的抛光、钝化速度慢，原反应时间为５～１０秒，现增加到３分钟，这样有利于控制波纹管刚度，使超刚度率从５％下降到２％。用新工艺配方处理后的铜合金波纹管表面色泽金黄，均匀一致，钝化膜厚达１０微米。该工艺所用的化工原料立足国内市场，配制方便，使用周期长，操作无危害，成本降低。新的抛光、钝化液不含铬，废水处理方便。主要技术指标：抛光液系无色透明，溶液酸性，在室温下使用；ＢＯＳ钝化液呈微混，ＦＨ值６．５，在６０～７０℃时使用。
找到34项技术成果数据。
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一种抛光液及其制备方法和用途
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本发明涉及一种化学机械抛光液及其制备方法和用途，所述抛光液包含磨粒、分散剂、氧化剂、缓蚀剂、pH调节剂、稳定剂及溶剂。本发明利用无机填料磷酸锆作为抛光磨粒。这种型抛光新材料与传统的片状氧化铝相比，分散性更好，稳定性高，沉降效果不明显。此外磷酸锆具有二维片层状结构，受到外力时会产生定向排列从而优化磨粒的取向，这样优化后的抛光磨粒在抛光过程中更加稳定，产生的划痕更少，整个抛光体系更加稳定，可达到更好的抛光效果。
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光电子单晶材料超光滑表面加工关键技术
成熟度：正在研发
技术类型：-
应用行业：采矿业
技术简介
技术投资分析：成果简介本项目采用化学机械超精密抛光方法，通过磨料微粒与工件加工面接触部分的化学反应以及抛光液的腐蚀作用在加工表面形成化学反应薄层，利用微粒的机械摩擦作用去除反应层，高效率获得钽酸锂单晶片超光滑抛光表面。本项目可根据被加工材料的特性，优选抛光液，获得提高抛光效率的化学反应层；并给出抛光盘转速、抛光压力、磨料粒度、抛光液PH值等主要抛光工艺参数的最优值，以实现高效率、高精度的晶片锯切和无损伤镜面抛光。技术的应用领域前景分析：本技术投资少，见效快，市场前景广，特别适合于中小企业生产。效益分析：本项目市场应用范围广，成本低，利润高，效益可观。厂房条件建议：无备注：无
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新型黄铜拉链牙的化学抛光技术
成熟度：通过小试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
本黄铜拉链牙的化学抛光技术具有抛光速度快（可达4 mg?cm-2?min-1）；抛光液较稳定；抛光效果好而且抛光后布带不退色（而且在150 0C以下温度烘干布带也不退色）；抛光液工艺环保，没有有毒气体或物质产生；工艺先进。目前已完成对H65和H80黄铜拉链抛光液配方和抛光工艺条件，抛光液在抛光过程的消耗规律及补加方案和有效成分的分析测试等，抛光后处理如钝化配方和工艺条件，相应的核心技术已申请国家发明专利，可随时进行合作试生产（中试实验）。抛光生产流程：碱性除油（加热70～80 0C，3～5分钟）→ 水洗 → 化学抛光（ 40 0C，1分钟，机械或空气搅拌，真空脱液并回收抛光液）→ 水洗 → 后处理（如上漆、钝化、氧化着色、化学镀等）。(a)钝化流程：钝化（40 0C，1分钟，需真空脱液并回收） → 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。(b)氧化着色、化学镀等流程： 氧化着色、化学镀等（需真空脱液并回收）→ 水洗 →烘干（150 0C以下温度蒸汽烘干）。相应的主要设备及硬件要求：抛光池（加热装置），除油池（加热装置），水洗池，以上设备质地为PVC或其它硬质塑料，各若干个。机械搅拌机（或空气压缩搅拌）和烘干设备。要求水质：去离子水（离子交换树脂法得到）。
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一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
本发明公开了一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺（专利号201110151813.7），抛光液以醇(甲醇、乙醇中的至少一种)和酸(硫酸、醋酸中的至少一种)作为其主体成分。本发明所提供的不锈钢表面抛光处理工艺包括以下步骤：除油污处理、超声振动水洗、超声振动酸洗、超声振动碱洗、电解抛光、超声振动水洗、钝化、清洗及烘干。与传统不锈钢电解抛光液相比，本抛光液既不含铬酸酐，减少了环境污染，废液易于处理，属于环保型抛光液；又不含价格昂贵的磷酸，降低了抛光成本，有利于不锈钢电解抛光工艺的推广。经试验证明，该抛光液及其工艺能有效除去不锈钢表面的氧化膜及划痕，并可使工件达到镜面光亮的效果，有效地提高抛光品质。
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一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液。本发明所述抛光液中包含研磨颗粒、络合剂、氧化剂，表面活性剂、抑菌剂和水，抑菌剂的含量为重量百分比0.001～1％；研磨颗粒含量为重量百分比3～15％；络合剂的含量为重量百分比1～5％；表面活性剂的含量为重量百分比0.01～1％；过氧化氢的含量为重量百分比0.5～3％；用水补足含量至重量百分比100％。本发明抛光液适用于下压力不大于5.516kPa时铜的精抛光，不包含腐蚀抑制剂。
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一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明属于金属表面处理技术领域，公开了一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺。所述抛光液包含60g/L～90g/L硝酸盐、60g/L～90g/L盐酸、120ml/L～180ml/L中强酸、20g/L～50g/L粘度调节剂、1g/L～10g/L缓蚀剂、2g/L～6g/L光亮剂和水。所述抛光工艺为：将金属工件进行脱脂活化前处理，然后置于抛光液中，在温度为60～100℃浸泡2.5～4min进行抛光，抛光完成后，将金属工件进行中和后处理，即可得到平整光滑的金属表面。本发明的化学抛光液安全环保，抛光效率高，成本低，适于工业化应用。
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一种化学抛光液及合金表面抛光处理方法
成熟度：正在研发
技术类型：发明
应用行业：制造业
技术简介
摘要：本发明公开了一种化学抛光液及合金表面处理方法，每升抛光液中各组分含量为：过硫酸盐30～100g，浓硫酸300～500ml，粘度调整剂10～40g，光亮剂2～14g，余量为水。将合金工件依次进行除油、清洗、酸洗活化、清洗；将上述经前处理后合金工件置于所述的化学抛光液中浸渍；抛光完成后，将合金工件依次清洗、钝化、清洗、烘干即可。本发明采用过硫酸钠作为氧化剂，抛光过程中不产生“黄烟”，绿色环保。且该抛光液成分简单，容易管控。所得化学抛光表面光亮、平整，可达镜面抛光效果。本发明的抛光液可以广泛的应用于铜合金表面的抛光。
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高性能纳米粒子抛光液
成熟度：通过中试
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
是否验收 √ □ 是 □否 成果获奖情况 上海市科技进步三等奖有否样品或样机√ □ 有 □无 科研项目资助情况 国家自然科学基金相关评价和证明□项目可行性报告 □查新报告 □鉴定证书 √ □检测报告 □高新技术或新产品认定证书 √ □用户意见 □其他：技术成熟程度□已实现规模产业化 □已在工业领域或具体企业实际应用 □已实现小批量生产 √ □已通过中试验证 □处在中试阶段 □小试阶段 □处在实验室研发阶段 □其他：知识产权情况专利申请号 ZL200510023377.X 、 ZL201110298605.X是否己经授权 √ □ 是 □ 否技术成果简介化学机械抛光技术（CMP） 是迄今唯一的可以达到全局平面化的超精加工技术， 抛光液是 CMP 技术的关键要素。 纳米粒子 CMP 抛光液由纳米粒子（如氧化硅、 氧化铈等）、 氧化剂、 其他功能性助剂及溶剂组成。 可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等表面的纳米级及亚纳米级抛光。 目前，在计算机硬盘基片的抛光中可以达到表面粗糙度(Ra)小于 0.5 Å， 居国际先进水平。技术创新点或优势由纳米磨粒、功能助剂组成的纳米抛光液， 可以实现表面的超精抛光， 特征是达到纳米级或亚纳米级的表面粗糙度和波纹度， 该指标是目前对表面质量的最高要求。技术经济指标外观： 白色或淡黄色分散液； 粒径： 10-150 纳米； 固含量： 20-40%； PH 值： 1-6； 8-11。该技术属于 IT 产品制造中的高、 新技术产品， 市场前景好。 部分产品可替代进口。工业领域实际应用情况概述可广泛用于计算机硬盘、 超大规模集成电路晶片、 蓝宝石晶片、 不锈钢、 铝合金、 光学玻璃、 光盘、 晶体、 微机电系统等金属或非金属材料表面的超精密（纳米级及亚纳米级）抛光。服务方式 √ □技术转让 √ □ 技术开发 □ 技术服务 □ 技术咨询
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超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
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应用行业：制造业
技术简介
超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光液的组成成分重量%是SiO2,GeO2,AlO3,ZrO,MgO的水溶胶18-50;无金属离子的羟胺类化合物和铵盐类化合物0.1-10；多羟多胺类化合物和铵盐类化合物0.005-25；非离子表面活性剂0.1-10；余量为去离子水。该抛光液损伤小,平整度高,易清洗;不腐蚀设备,不污染环境;选择性强,速率高;价格便宜,成本低。主要用于超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽化学机械全局平面化抛光，推广前景好。
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新型抛光液和BOS钝化液及工艺研究
成熟度：-
技术类型：-
应用行业：制造业
技术简介
该成果所研制的新工艺比厂方原工艺的抛光、钝化速度慢，原反应时间为５～１０秒，现增加到３分钟，这样有利于控制波纹管刚度，使超刚度率从５％下降到２％。用新工艺配方处理后的铜合金波纹管表面色泽金黄，均匀一致，钝化膜厚达１０微米。该工艺所用的化工原料立足国内市场，配制方便，使用周期长，操作无危害，成本降低。新的抛光、钝化液不含铬，废水处理方便。主要技术指标：抛光液系无色透明，溶液酸性，在室温下使用；ＢＯＳ钝化液呈微混，ＦＨ值６．５，在６０～７０℃时使用。